特許
J-GLOBAL ID:201203038700980500
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高松 猛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-214563
公開番号(公開出願番号):特開2012-068543
出願日: 2010年09月24日
公開日(公表日): 2012年04月05日
要約:
【課題】ブリッジ前寸法等の解像力、DOFに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用により分解してアミド基又はチオアミド基を生じる樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
酸の作用により分解してアミド基又はチオアミド基を生じる樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
IPC (5件):
G03F 7/038
, G03F 7/40
, G03F 7/38
, C08F 8/00
, H01L 21/027
FI (5件):
G03F7/038 601
, G03F7/40
, G03F7/38 501
, C08F8/00
, H01L21/30 502R
Fターム (98件):
2H096AA25
, 2H096BA01
, 2H096DA04
, 2H096EA05
, 2H096EA23
, 2H096GA03
, 2H096GA17
, 2H096JA04
, 2H125AF17P
, 2H125AF19P
, 2H125AF21P
, 2H125AF36P
, 2H125AF38P
, 2H125AF70P
, 2H125AH04
, 2H125AH12
, 2H125AH14
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH22
, 2H125AH23
, 2H125AH24
, 2H125AH29
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ14Y
, 2H125AJ27Y
, 2H125AJ32Y
, 2H125AJ52X
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ65Y
, 2H125AJ66X
, 2H125AL03
, 2H125AM12P
, 2H125AM22P
, 2H125AM23P
, 2H125AM30P
, 2H125AM43P
, 2H125AM66P
, 2H125AM86P
, 2H125AM99P
, 2H125AN08P
, 2H125AN34P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN45P
, 2H125AN54P
, 2H125AN56P
, 2H125AN57P
, 2H125AN62P
, 2H125AN63P
, 2H125AN64P
, 2H125AN65P
, 2H125AN82P
, 2H125AN86P
, 2H125AN88P
, 2H125BA01P
, 2H125BA26P
, 2H125BA32P
, 2H125BA33P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC01
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 2H125FA05
, 4J100AB04P
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AR11Q
, 4J100AU41
, 4J100BA11Q
, 4J100BA15Q
, 4J100BA15R
, 4J100BA28R
, 4J100BA29R
, 4J100BA35H
, 4J100BA35R
, 4J100BA40P
, 4J100BA50H
, 4J100BA72Q
, 4J100BB18P
, 4J100BB18Q
, 4J100BC03P
, 4J100BC04P
, 4J100BC09R
, 4J100BC53Q
, 4J100BC59R
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100CA31
, 4J100HA61
, 4J100HC71
, 4J100HE20
, 4J100HG27
, 4J100JA38
引用特許: