特許
J-GLOBAL ID：201203039592708226

ポリマー、フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法

発明者：
ヤン・チョル・ペ

ヤン・チョル・ペ について

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デイビッド・リチャード・ウィルソン

デイビッド・リチャード・ウィルソン について

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チビン・スン

チビン・スン について


出願人/特許権者：
ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. について

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ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー

ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー について


代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-260184
公開番号（公開出願番号）：特開2012-131988
出願日： 2011年11月29日
公開日（公表日）： 2012年07月12日
要約：
【課題】フォトリソグラフィパターンを形成するのに有用なポリマーおよびフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】側鎖に環状アセタール骨格を有するポリマー。該ポリマーと光酸発生剤とを含むフォトレジスト組成物。ポリマーが、側鎖に環状アセタール骨格を有する(メタ)アクリル酸エステルの重合体である。フォトレジストでコーティングされた基体、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法。基体と、当該基体の表面上のフォトレジスト組成物の層とを含むコーティングされた基体。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
下記一般式(I):
IPC (4件)：
C08F 220/28 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
C08F220/28 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (40件)：
2H125AF17P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AH03 ,  2H125AH17 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ55X ,  2H125AJ59X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AM23P ,  2H125AM66P ,  2H125AM99P ,  2H125AN11P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN56P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125CA12 ,  2H125CB07 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA15R ,  4J100BC52P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100BC58P ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (4件)
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