N2ガスパージ装置におけるノズルユニット

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：後田春紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-040792
公開番号（公開出願番号）：特開2012-164948
出願日： 2011年02月08日
公開日（公表日）： 2012年08月30日
要約：

【課題】半導体製造ラインにおいて、FOUP内へN2ガスを供給して、N2ガスパージを十分に行うことができ、且つパージ時間も短くすることができるノズルユニットを提供する。【解決手段】上部にブリージングフィルターユニットの通気開口に密着するノズル先端部36、下部に半球面シール部37を備えると共に、上部と下部をガス通路38が貫通した構造のノズル35と、上部に前記ノズル35の半球面シール部37を受けて保持するための凹型半球面シール部43を備え、且つ中心にガス通路45を備えたノズル受け42、更に、前記ノズル35の可動性を維持したまま、該ノズル35をノズル受け42に保持すべく、ノズル35とノズル受け42にOリング溝46および保持用Oリング47をそれぞれ設けてN2ガスパージ装置におけるノズルユニットを形成する。【選択図】図13

請求項（抜粋）：

半導体製造ラインにおいて、FOUP(半導体ウエハ収納容器)をN2ガスパージ装置に搭載するFOUP底部に設けられたブリージングフィルタユニットのN2ガス供給側通気開口と残留ガス排気側通気開口が、N2ガスパージ装置のFOUP搭載部に設けられたN2ガス供給ノズルおよび排気ノズルにそれぞれ連結され、N2ガス供給ノズルよりN2ガスが供給され、排気ノズルにより、FOUP内部の残留ガスが排出され、FOUP内部をN2ガスで充満させるN2ガスパージ装置のN2ガス供給ノズルと排気ノズルを備えたノズルユニットにおいて、上部にブリージングフィルタユニットの通気開口に密着するノズル先端部、下部に半球面シール部を備えると共に、上部と下部をガス通路が貫通した構造のノズルと、上部に前記ノズルの半球面シール部を受けて保持するための凹型半球面シール部を備え、且つ中心にガス通路を備えたノズル受け、更に、前記ノズルの可動性を維持したまま、該ノズルをノズル受けに保持すべく、ノズルとノズル受けにOリング溝および保持用Oリングをそれぞれ備えたことを特徴とするN2ガスパージ装置におけるノズルユニット。

IPC (2件)：

H01L 21/673 , B65D 85/86

FI (2件)：

H01L21/68 V , B65D85/38 R

Fターム (15件)：

3E096AA06 , 3E096BA16 , 3E096BB03 , 3E096CA01 , 3E096CB03 , 3E096EA02X , 3E096FA02 , 3E096FA03 , 3E096FA22 , 3E096GA20 , 5F031CA02 , 5F031DA08 , 5F031EA14 , 5F031EA20 , 5F031NA04

引用特許：

審査官引用 (3件)

保管システムおよび保管方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-022908 出願人：株式会社ダン・タクマ
板状ワークの移載装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-207379 出願人：シーケーディ株式会社
吸着搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-149920 出願人：東京エレクトロン山梨株式会社

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