特許
J-GLOBAL ID：201203041209447290

パターン検査装置およびパターン検査方法

発明者：
杉原 真児

杉原 真児 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について

, 
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (3件)： 池上 徹真 ,  須藤 章 ,  松山 允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-137823
公開番号（公開出願番号）：特開2012-002663
出願日： 2010年06月17日
公開日（公表日）： 2012年01月05日
要約：
【課題】微細なパターンのサイズエラーの検出を可能とするパターン検査装置を提供する。【解決手段】設計データに基づきパターンが形成された試料を撮像する画像取得部10と、設計データから展開画像を生成する展開画像生成部22と、展開画像を参照画像生成モデルに入力して参照画像を生成する参照画像生成部24であって、モデルパラメータを被検査画像と参照画像との間で画素の階調値の差が最小化されるよう最適化する参照画像生成部と、参照画像の基準パターンの測定値と、被検査画像の基準パターンの測定値から求められた基準パターンの変換差を用いて、参照画像と被検査画像のいずれか一方の被検査パターンの測定値を補正し、補正された参照画像の被検査パターンの測定値と、被検査画像の被検査パターンの測定値とを比較し欠陥の有無を検出する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
設計データに基づきパターンが形成された試料に電子線または光線を照射し、画像センサにより透過像または反射像を撮像することで、画素毎の階調値情報である画素データで構成される被検査画像を取得する画像取得部と、 前記設計データから、前記被検査画像と同一のフォーマットであって、画素毎の階調値情報である画素データで構成される展開画像を生成する展開画像生成部と、 前記展開画像を参照画像生成モデルに入力して参照画像を生成する参照画像生成部であって、前記参照画像生成モデルのモデルパラメータを前記被検査画像と前記参照画像との間で画素の階調値の差が最小化されるよう最適化する参照画像生成部と、 前記参照画像の基準パターンの測定値と、前記被検査画像の基準パターンの測定値から求められた前記基準パターンの変換差を記憶する変換差記憶部と、 前記変換差記憶部に記憶された前記変換差を用いて、前記参照画像と前記被検査画像のいずれか一方の被検査パターンの測定値を補正する測定値補正部と、 前記測定値補正部において前記参照画像を補正した場合には、補正された前記参照画像の被検査パターンの測定値と、前記被検査画像の被検査パターンの測定値とを比較し、前記測定値補正部において前記被検査画像を補正した場合には、補正された前記被検査画像の被検査パターンの測定値と、前記参照画像の被検査パターンの測定値とを比較し欠陥の有無を検出する測定値比較部と、 を有することを特徴とするパターン検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G01N 23/04 ,  G01N 23/225
FI (3件)：
G01N21/956 A ,  G01N23/04 ,  G01N23/225
Fターム (20件)：
2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001BA11 ,  2G001BA14 ,  2G001CA03 ,  2G001GA12 ,  2G001HA13 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051BA05 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB02 ,  2G051DA07 ,  2G051EA08 ,  2G051EA14 ,  2G051EB09
引用特許：
出願人引用 (3件)

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