特許
J-GLOBAL ID：200903016124198398

試料検査装置、及び試料検査方法

発明者：
永尾 拓朗

永尾 拓朗 について

, 
磯村 育直

磯村 育直 について


出願人/特許権者：
アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社

アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社 について


代理人 (2件)： 松山 允之 ,  池上 徹真
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-073109
公開番号（公開出願番号）：特開2008-232840
出願日： 2007年03月20日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：
【課題】被検査試料のパターンの欠陥を検出する機能を高めること。【解決手段】被検査試料のパターンの測定パターンデータを取得する測定パターンデータと、被検査試料の設計データから測定パターンデータに対応した展開パターンデータを生成する展開パターンデータとを比較して被検査試料のパターンの欠陥を検出する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
パターンを有する被検査試料を検査する試料検査装置において、 被検査試料のパターンの測定パターンデータを取得する測定パターンデータ取得装置と、 被検査試料の設計データから測定パターンデータに対応した展開パターンデータを生成する展開パターンデータ生成装置と、 展開パターンデータから複数の微小展開パターンを抽出する微小展開パターン抽出装置と、 複数の微小展開パターンを結合して模擬展開パターンデータを生成する模擬展開パターンデータ生成装置と、 測定パターンデータから複数の微小測定パターンを抽出する微小測定パターン抽出装置と、 複数の微小測定パターンを結合して模擬測定パターンデータを生成する模擬測定パターンデータ生成装置と、 模擬測定パターンデータと模擬展開パターンデータから画像処理パラメータを求めるパラメータ生成装置と、 画像処理パラメータを用いて展開パターンデータから基準パターンデータを生成する基準パターンデータ生成装置と、 測定パターンデータと基準パターンデータとを比較して被検査試料のパターンの欠陥を検出する比較装置と、を備える試料検査装置。
IPC (4件)：
G01N 21/956 ,  G01B 11/24 ,  G01B 11/00 ,  G06T 1/00
FI (5件)：
G01N21/956 A ,  G01B11/24 F ,  G01B11/24 K ,  G01B11/00 H ,  G06T1/00 305A
Fターム (47件)：
2F065AA14 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065BB27 ,  2F065CC17 ,  2F065CC18 ,  2F065CC25 ,  2F065FF04 ,  2F065FF61 ,  2F065HH13 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ18 ,  2F065JJ19 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL21 ,  2F065MM03 ,  2F065MM04 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ39 ,  2F065RR05 ,  2F065RR09 ,  2F065UU05 ,  2G051AA51 ,  2G051AB07 ,  2G051AC21 ,  2G051CA01 ,  2G051DA05 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051ED05 ,  2G051ED11 ,  2G051ED15 ,  5B057AA03 ,  5B057CD05 ,  5B057DA03 ,  5B057DA07 ,  5B057DC33
引用特許：
出願人引用 (9件)
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