浄水処理方法及び浄水処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-092918
公開番号（公開出願番号）：特開2012-223697
出願日： 2011年04月19日
公開日（公表日）： 2012年11月15日
要約：

【課題】処理水の回収率を高く維持しながら膜面へのケーキの付着を防止し、かつ低動力で効率的な運転が可能な浄水処理方法及びその方法に用いられる装置を提供すること。【解決手段】槽内の固形物含有水の固形物濃度が、限界固形物濃度(Ct)として、0.1Ct〜Ct、又は該固形物濃度が3000〜30000mg/Lとなるまで該固形物含有水の膜ろ過を実施する膜ろ過工程、前記膜ろ過工程後に該槽内の固形物含有水の全量又は一部を排水する排水工程、前記排水工程後に該槽内に原水を供給するとともに固形物含有水中の粉末活性炭濃度が50mg/L以上の目標値となるように制御する充水工程を含む、浄水処理方法。槽、膜エレメント及び集水部を有し槽内に浸漬される膜モジュール、及び槽下部に設置された散気装置を有する膜ろ過装置、及び粉末活性炭注入装置を含む、上記の浄水処理方法を実施するための浄水処理装置。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

槽内の固形物含有水の固形物濃度が、限界固形物濃度(Ct)として、0.1Ct〜Ctとなるまで該固形物含有水の膜ろ過を実施するとともに定期的な洗浄の実施を含む膜ろ過工程、前記膜ろ過工程後に該槽内の固形物含有水の全量又は一部を排水する排水工程、前記排水工程後に該槽内に原水を供給するとともに固形物含有水中の粉末活性炭濃度が50mg/L以上の目標値となるように制御する充水工程を含む、浄水処理方法。

IPC (4件)：

C02F 1/44 , B01D 61/22 , B01D 65/02 , C02F 1/28

FI (5件)：

C02F1/44 D , C02F1/44 A , B01D61/22 , B01D65/02 520 , C02F1/28 D

Fターム (36件)：

4D006GA06 , 4D006GA07 , 4D006HA01 , 4D006HA93 , 4D006KA01 , 4D006KA03 , 4D006KA31 , 4D006KA33 , 4D006KA43 , 4D006KA62 , 4D006KB12 , 4D006KB13 , 4D006KB30 , 4D006KC02 , 4D006KC14 , 4D006KD08 , 4D006KD09 , 4D006KD11 , 4D006KD17 , 4D006KD19 , 4D006KE14P , 4D006KE14Q , 4D006KE14R , 4D006KE22Q , 4D006MA01 , 4D006PA01 , 4D006PB04 , 4D624AA05 , 4D624AB04 , 4D624BA02 , 4D624BB01 , 4D624BC04 , 4D624DA03 , 4D624DB05 , 4D624DB20 , 4D624DB21

引用特許：

審査官引用 (2件)

水処理装置及び水処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-226447 出願人：株式会社神鋼環境ソリューション
浄水装置及び膜エレメントの洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-000912 出願人：住友重機械工業株式会社

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