特許
J-GLOBAL ID：201203048050671163

鏡筒基体及びそれを用いた鏡筒の製造方法

発明者：
木下 歳久

木下 歳久 について


出願人/特許権者：
ペンタックスリコーイメージング株式会社

ペンタックスリコーイメージング株式会社 について


代理人 (1件)： 高石 橘馬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-214164
公開番号（公開出願番号）：特開2012-068511
出願日： 2010年09月24日
公開日（公表日）： 2012年04月05日
要約：
【課題】反射防止処理のためのめっき処理を内壁面に容易に施すことができる鏡筒基体及びそれを用いた鏡筒の製造方法を提供する。【解決手段】内壁面に反射防止面が形成された鏡筒の製造に用いる鏡筒基体であって、鏡筒基体の内壁面のうち、鏡筒の反射防止面に相当する部分がめっき処理が可能な樹脂により形成されており、その他の部分がめっき処理ができない樹脂により形成されていることを特徴とする鏡筒基体。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
内壁面に反射防止面が形成された鏡筒の製造に用いる鏡筒基体であって、前記鏡筒基体の内壁面のうち、前記鏡筒の反射防止面に相当する部分がめっき処理が可能な樹脂により形成されており、その他の部分がめっき処理ができない樹脂により形成されていることを特徴とする鏡筒基体。
IPC (1件)：
G02B 7/02
FI (2件)：
G02B7/02 D ,  G02B7/02 Z
Fターム (3件)：
2H044AD01 ,  2H044AJ03 ,  2H044AJ05
引用特許：
審査官引用 (4件)
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