特許
J-GLOBAL ID：201203048823863083

塗布装置および塗布膜形成システム

発明者：
井上 正雄

井上 正雄 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (2件)： 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-078465
公開番号（公開出願番号）：特開2012-212619
出願日： 2011年03月31日
公開日（公表日）： 2012年11月01日
要約：
【課題】基材の一方の主面に塗布膜が形成されている場合において、他方の主面に良好に塗布膜を形成することができる塗布装置、および、この塗布装置を組み込んだ塗布膜形成システムを提供する。【解決手段】塗布処理部10は、活物質の第1塗布膜6が形成された状態で、基材5の第2主面5bに活物質の塗布液を塗布する。塗布処理部10は、主として、ノズル11と、位置検出部13と、駆動部15と、を備えている。ノズル11は、バックアップローラ12と対向する位置に配置されている。位置検出部13は、いわゆる2次元レーザ変位計により構成されたセンサである。位置検出部13は、長手方向に沿った基材5の搬送経路8において、ノズル11の吐出位置PDより上流側の検出位置PSに配置されている。駆動部15は、ノズル11を前後左右上下に移動させることによって、バックアップローラ12に対する吐出口11aの位置を調整する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
帯状とされた基材の第1主面上に活物質の第1塗布膜が形成された状態で、前記基材の第2主面に活物質の塗布液を塗布することによって、前記第2主面上に第2塗布膜を形成する塗布装置であって、 前記第1塗布膜は、前記基材の長手方向に沿って形成されてるとともに、 前記第2塗布膜が形成される時、前記基材は、前記長手方向に沿って搬送され、 (a) 前記基材の幅方向に沿ったスリット状の吐出口から前記基材の前記第2主面に向けて、前記塗布液を吐出するノズルと、 (b) 前記長手方向に沿った前記基材の搬送経路において、前記ノズルの吐出位置より上流側の検出位置に配置されるとともに、前記幅方向おける前記第1塗布膜の第1両端位置を前記基材の各部分について検出する位置検出部と、 (c) 前記ノズルを前記幅方向に沿って移動させる駆動部と、 (d) 前記位置検出部により検出された前記第1両端位置に基づいて、前記幅方向における前記ノズルの位置を決定することによって、前記基材の各部分における前記第2塗布膜の形成位置を決定する制御部と、 備えることを特徴とする塗布装置。
IPC (3件)：
H01M 4/139 ,  B05C 5/02 ,  H01M 4/04
FI (3件)：
H01M4/02 108 ,  B05C5/02 ,  H01M4/04 101A
Fターム (24件)：
4F041AA12 ,  4F041AB01 ,  4F041BA05 ,  4F041CA13 ,  4F041CA18 ,  5H050AA19 ,  5H050BA17 ,  5H050CA01 ,  5H050CA02 ,  5H050CA03 ,  5H050CA05 ,  5H050CB08 ,  5H050CB09 ,  5H050CB11 ,  5H050DA04 ,  5H050DA10 ,  5H050DA11 ,  5H050EA10 ,  5H050EA24 ,  5H050FA03 ,  5H050FA18 ,  5H050GA02 ,  5H050GA22 ,  5H050GA29
引用特許：
出願人引用 (7件)
  • 塗工装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-206911   出願人：株式会社ヒラノテクシード
  • 塗工装置及び塗工方法
    公報種別：公表公報   出願番号：特願2010-520084   出願人：トヨタ自動車株式会社
  • 塗布装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-085320   出願人：ソニー株式会社
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