化学増幅型ポジフォトレジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：結田純次 , 竹林則幸
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-513356
公開番号（公開出願番号）：特表2012-529064
出願日： 2010年06月01日
公開日（公表日）： 2012年11月15日
要約：

フォトレジスト組成物。組成物は、以下:(a)1つ又はそれ以上の酸感受性基を含み、そしてアセタール又はケタール基によって保護されたフェノール基を実質的に含まない1つ又はそれ以上の樹脂バインダー;(b)高エネルギーの線源に露光すると分解し、そして1つ又はそれ以上の酸感受性基を除去するのに十分強い光酸を発生する1つ又はそれ以上の光酸発生剤;(c)イミニウム塩を含む1つ又はそれ以上のイオン性非感光性添加剤;及び(d)1つ又はそれ以上の溶媒;を有する。また、フォトレジスト組成物を用いて基板上にレリーフ構造をパターン形成する方法もある。

請求項（抜粋）：

1つ又はそれ以上の酸感受性保護基を含み、そしてアセタール又はケタール基によって保護されたフェノール基を実質的に含まない、1つ又はそれ以上の樹脂バインダーで、酸の作用によってアルカリ可溶性になって、酸感受性保護基を除去する、樹脂バインダー; 高エネルギーの線源に露光すると分解し、そして1つ又はそれ以上の酸感受性基を除去するのに十分強い光酸を発生する1つ又はそれ以上の光酸発生剤; 1つ又はそれ以上のイミニウム塩のイオン性非感光性添加剤;及び 1つ又はそれ以上の溶媒: を含むフォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 , C08F 8/12 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/004 501 , C08F8/12 , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (73件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF29P , 2H125AF35P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF41P , 2H125AF45P , 2H125AF70P , 2H125AH08 , 2H125AH12 , 2H125AH15 , 2H125AH29 , 2H125AJ13Y , 2H125AJ14X , 2H125AJ14Y , 2H125AJ44Y , 2H125AJ48Y , 2H125AJ56Y , 2H125AJ60Y , 2H125AJ64X , 2H125AJ64Y , 2H125AJ65X , 2H125AJ65Y , 2H125AJ68X , 2H125AJ68Y , 2H125AJ70Y , 2H125AJ84Y , 2H125AJ92Y , 2H125AM66P , 2H125AN02P , 2H125AN05P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN45P , 2H125AN63P , 2H125AN82P , 2H125AN86P , 2H125BA01P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125CA12 , 2H125CB08 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 4J100AB02R , 4J100AB07P , 4J100AB07R , 4J100AL03Q , 4J100AL03R , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA03H , 4J100BA10P , 4J100BC04R , 4J100BC09Q , 4J100BC43R , 4J100BC44R , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA31 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100DA25 , 4J100DA39 , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100HA08 , 4J100HE08 , 4J100HE14 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (5件)

画像形成組成物およびそれを用いた感光性平版印刷版
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-241033 出願人：岡本化学工業株式会社
ポジ型感光性組成物及びそれを用いた画像記録材料
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-073819 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-315315 出願人：信越化学工業株式会社

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