特許
J-GLOBAL ID:201203065249911041
改善されたバリア層の性質を有する薄膜の高速成膜
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
杉村 憲司
, 冨田 和幸
, 寺嶋 勇太
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-539778
公開番号(公開出願番号):特表2012-511106
出願日: 2009年12月07日
公開日(公表日): 2012年05月17日
要約:
原子層成膜(ALD)法を用いて、二酸化チタンのような金属酸化物の薄膜バリア層(100)を基板(110)上に成膜する。チタン酸化物バリアをALDにより約100°C未満の温度で成膜する場合に、優れたバリア層特性を達成することができる。100オングストローム未満の厚さで、約0.01g/m2/日未満の水蒸気透過速度を有するバリアおよびかかるバリアの製造方法が開示されている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板上に成膜した蒸気バリアであって、
150オングストローム未満の厚さで、0.5g/m2/日未満の水蒸気透過速度を有する金属酸化物の薄膜を備えることを特徴とする蒸気バリア。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (28件):
3E086AA01
, 3E086AB01
, 3E086AD13
, 3E086BA04
, 3E086BA13
, 3E086BA15
, 3E086BB02
, 3E086BB05
, 3E086CA01
, 3E086CA27
, 3E086CA28
, 3E086CA31
, 3E086DA08
, 4K030AA03
, 4K030AA14
, 4K030BA46
, 4K030BB05
, 4K030BB11
, 4K030CA07
, 4K030CA17
, 4K030DA02
, 4K030FA01
, 4K030GA14
, 4K030HA01
, 4K030JA01
, 4K030JA10
, 4K030JA12
, 4K030LA01
引用特許: