特許
J-GLOBAL ID：201203070122597732

ブランクマスク及びフォトマスク

発明者：
南 基 守

南 基 守 について

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姜 亘 遠

姜 亘 遠 について

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李 鐘 華

李 鐘 華 について

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梁 ▲ちょる▼ 圭

梁 ▲ちょる▼ 圭 について

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權 順 基

權 順 基 について


出願人/特許権者：
株式会社エスアンドエス テック

株式会社エスアンドエス テック について


代理人 (3件)： 伊東 忠重 ,  伊東 忠彦 ,  大貫 進介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-095619
公開番号（公開出願番号）：特開2012-230379
出願日： 2012年04月19日
公開日（公表日）： 2012年11月22日
要約：
【課題】 フラットパネルディスプレイの製造に利用されるブランクマスク及びフォトマスクを提供する。【解決手段】 透明基板上に遮光領域を含む領域に形成された遮光膜パターンと、露出された該透明基板上に形成された位相反転膜とを持ち、位相反転膜は、露光光に対して160 ゚ないし200 ゚の位相差を持ち、遮光膜パターン及び位相反転膜は、同じエッチング物質によりエッチングされることを特徴とするブランクマスク。これにより、等倍露光装置を利用してフラットパネルディスプレイ(FPD)デバイスを製造するに当って高い解像度を表すことができ、特に、複数の露光光を利用する等倍露光装置に好適である。【選択図】 図4B
請求項（抜粋）：
ブラインド領域に遮光領域及び透光領域が備えられ、メイン領域に位相反転領域及び透光領域が備えられたフラットパネルディスプレイ(FPD)製造用フォトマスクであり、 前記ブラインド領域は、透明基板上に遮光膜パターン及び位相反転膜が積層されて構成され、前記ブラインド領域の透光領域は、前記位相反転膜及び遮光膜パターンが順次にエッチングされて露出された前記透明基板領域を含み、 前記メイン領域の透光領域は、透明基板上に積層された位相反転膜がエッチングされて露出された前記透明基板領域を含み、 前記遮光膜パターンのエッチング速度は、同じエッチング物質に対して前記位相反転膜のエッチング速度より速いことを特徴とするフォトマスク。
IPC (1件)：
G03F 1/32
FI (1件)：
G03F1/32
Fターム (4件)：
2H095BA01 ,  2H095BA12 ,  2H095BB03 ,  2H095BB14
引用特許：
出願人引用 (4件)
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