特許
J-GLOBAL ID:201203073369628281
被膜形成用組成物、反射防止被膜付き基板、および反射防止被膜付き太陽電池モジュール
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-113687
公開番号(公開出願番号):特開2012-242666
出願日: 2011年05月20日
公開日(公表日): 2012年12月10日
要約:
【課題】屈折率が低く、基板に対しムラなく被膜形成が可能で、表面親水化による防汚性および、高い膜強度を有する被膜を形成することのできる反射防止被膜形成用組成物を提供する。【解決手段】チタン酸化物、ケイ素酸化物および有機ケイ素系界面活性剤を含む被膜形成用組成物であって、Siのモル濃度/Tiのモル濃度が20〜5で、該被膜形成用組成物の表面張力が20mN/m〜35mN/mで、該被膜形成用組成物の25度における平均拡散定数が6.5×10-8cm2/s〜8.0×10-8cm2/sで、該被膜形成用組成物の電気泳動移動度-5.0×10-4cm2/V・s〜-4.0×10-4cm2/V・sとすることにより解決する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
チタン酸化物と、ケイ素酸化物と、有機ケイ素系界面活性剤とを含む被膜形成用組成物であって、Siのモル濃度/Tiのモル濃度が5〜20であり、滴下法による空気に対する表面張力が20mN/m〜35mN/mであり、散乱角90度及び温度25度において動的散乱装置によって測定され得られた自己相関関数をキュムラント法により解析して計算される拡散定数を算術平均して求められる平均拡散定数が6.5×10-8cm2/s〜8.0×10-8cm2/sであり、動的散乱装置を使用した電気泳動レーザードップラー法により温度25度で測定される電気泳動移動度が-5.0×10-4cm2/V・s〜-4.0×10-4cm2/V・sである、被膜形成用組成物。
IPC (8件):
G02B 1/11
, C09D 1/00
, C09D 5/33
, C09D 7/12
, C09D 5/00
, G02B 1/10
, H01L 31/04
, H01L 31/042
FI (8件):
G02B1/10 A
, C09D1/00
, C09D5/33
, C09D7/12
, C09D5/00 Z
, G02B1/10 Z
, H01L31/04 F
, H01L31/04 R
Fターム (45件):
2K009AA02
, 2K009AA15
, 2K009CC01
, 2K009CC03
, 2K009CC09
, 2K009CC42
, 2K009CC47
, 2K009DD02
, 2K009EE05
, 4J038DL02
, 4J038DL022
, 4J038DL03
, 4J038DL032
, 4J038DL052
, 4J038HA066
, 4J038HA086
, 4J038HA212
, 4J038HA246
, 4J038HA441
, 4J038JA17
, 4J038JA43
, 4J038JA66
, 4J038JC30
, 4J038JC38
, 4J038KA02
, 4J038KA06
, 4J038KA08
, 4J038KA09
, 4J038KA12
, 4J038KA20
, 4J038MA08
, 4J038MA11
, 4J038NA05
, 4J038NA06
, 4J038NA19
, 4J038PA18
, 4J038PA20
, 4J038PB08
, 4J038PB09
, 4J038PC03
, 4J038PC08
, 5F151GA03
, 5F151GA06
, 5F151HA03
, 5F151JA03
引用特許:
前のページに戻る