特許
J-GLOBAL ID:201203077016753746

メタンハイドレートの処理方法及び処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-219102
公開番号(公開出願番号):特開2012-072029
出願日: 2010年09月29日
公開日(公表日): 2012年04月12日
要約:
【課題】メタンハイドレートを有効利用できるメタンハイドレートの処理方法及び処理装置を提供する。 【解決手段】本発明のメタンハイドレートの処理方法は、プラズマ用電極32に高周波を供給し、プラズマ用電極32によりメタンハイドレートに電磁波を照射してプラズマを発生させるプラズマ発生ステップと、プラズマによりメタンハイドレートを分解して水素を発生させる水素発生ステップと、を備えることを特徴とする。 【選択図】 図1
請求項(抜粋):
プラズマ用電極に高周波を供給し、前記プラズマ用電極によりメタンハイドレートに電磁波を照射してプラズマを発生させるプラズマ発生ステップと、 前記プラズマにより前記メタンハイドレートを分解して水素を発生させる水素発生ステップと、 を備えることを特徴とするメタンハイドレートの処理方法。
IPC (2件):
C01B 3/02 ,  C10L 3/06
FI (2件):
C01B3/02 Z ,  C10L3/00 A
Fターム (4件):
4G140BA03 ,  4G140BB03 ,  4G140DA05 ,  4G140DB04
引用特許:
審査官引用 (4件)
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