特許
J-GLOBAL ID:201203080864537469

フルオロスルホニルイミド塩およびフルオロスルホニルイミド塩の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 植木 久一 ,  植木 久彦 ,  菅河 忠志 ,  伊藤 浩彰 ,  柴田 有佳理
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-062730
公開番号(公開出願番号):特開2012-136429
出願日: 2012年03月19日
公開日(公表日): 2012年07月19日
要約:
【課題】不純物の含有量を低減でき、且つ、長期に亘る連続操業が可能なフルオロスルホニルイミド塩の製造方法並びにフルオロスルホニルイミド塩を提供する。【解決手段】本発明のフルオロスルホニルイミド塩とは、Kの含有量が、10000ppm以下である。また、本発明の製造方法とは、クロロスルホニルイミドまたはその塩のフッ素化反応後に、不純物除去のため、反応溶液をアルカリ水溶液と接触させるものである。【選択図】図1
請求項(抜粋):
Kの含有量が、10000ppm以下であることを特徴とするフルオロスルホニルイミド塩。
IPC (1件):
C01B 21/086
FI (1件):
C01B21/086
引用特許:
審査官引用 (9件)
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引用文献:
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