特許
J-GLOBAL ID：201203081937560398

反応炉

発明者：
亀谷 雄樹

亀谷 雄樹 について


出願人/特許権者：
株式会社IHI

株式会社IHI について


代理人 (1件)： 特許業務法人青海特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-032198
公開番号（公開出願番号）：特開2012-171978
出願日： 2011年02月17日
公開日（公表日）： 2012年09月10日
要約：
【課題】太陽光を入射させる入射窓の透過率の低下を回避し、稼働率を向上する。【解決手段】反応炉130は、集光した太陽光を鉛直下方に導光するビームダウン方式の反応炉であって、予め固体炭素220が充墳され、鉛直上方が開口された充填容器200と、充填容器の鉛直上方に配され、導光された太陽光を充填容器内部に入射させる入射窓202と、入射窓が設けられ、入射窓を介して入射する太陽光によって加熱された固体炭素の熱で吸熱反応を起こす原料ガスを、充填された固体炭素に向けて充填容器の鉛直上方から流入させる流入路204と、吸熱反応によって生成ガスと炭素粒子230が生成されると、生成ガスと、生成ガスによって押し出された炭素粒子が流出する流出路206と、を備える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
集光した太陽光を鉛直下方に導光するビームダウン方式の反応炉であって、 予め固体炭素が充墳され、鉛直上方が開口された充填容器と、 前記充填容器の鉛直上方に配され、導光された前記太陽光を該充填容器内部に入射させる入射窓と、 前記入射窓を介して入射する前記太陽光によって加熱された前記固体炭素の熱で吸熱反応を起こす原料ガスを、充填された該固体炭素に向けて前記充填容器の鉛直上方から流入させる流入路と、 前記吸熱反応によって生成ガスと炭素粒子が生成されると、該生成ガスと、該生成ガスによって押し出された該炭素粒子が流出する流出路と、 を備えることを特徴とする反応炉。
IPC (1件)：
C10J 3/72
FI (2件)：
C10J3/72 B ,  C10J3/72 J
引用特許：
出願人引用 (4件)
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