特許

J-GLOBAL ID：201203082255108562

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法

発明者： 土村 智孝 ,  高橋 秀知 ,  平野 修史
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (1件)： 高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-191553
公開番号（公開出願番号）：特開2012-048075
出願日： 2010年08月27日
公開日（公表日）： 2012年03月08日
要約：

【課題】特に露光光源として電子線、X線又はEUV光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】カチオンを有するカチオン性繰り返し単位(A)、 前記カチオンとイオン対を形成するアニオンを有し、かつ活性光線又は放射線の照射により前記カチオンから解離して酸を発生するアニオン性繰り返し単位(B)、及び 酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位(C)を有する樹脂(P)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

カチオンを有するカチオン性繰り返し単位(A)、 前記カチオンとイオン対を形成するアニオンを有し、かつ活性光線又は放射線の照射により前記カチオンから解離して酸を発生するアニオン性繰り返し単位(B)、及び 酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位(C)を有する樹脂(P)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 220/38 ,  C08F 220/22 ,  C08F 212/04 ,  C08F 220/10 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  C08F220/38 ,  C08F220/22 ,  C08F212/04 ,  C08F220/10 ,  H01L21/30 502R

Fターム (107件)：

2H125AF15P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF27P ,  2H125AF34P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH04 ,  2H125AH05 ,  2H125AH06 ,  2H125AH11 ,  2H125AH12 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ04X ,  2H125AJ04Y ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ42X ,  2H125AJ42Y ,  2H125AJ44X ,  2H125AJ47Y ,  2H125AJ48X ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ52X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ64Y ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ65Y ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ87Y ,  2H125AL11 ,  2H125AM12P ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AM32P ,  2H125AM86P ,  2H125AM99P ,  2H125AN08P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN67P ,  2H125AN82P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB08 ,  2H125CB09 ,  2H125CB12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AB07S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA10Q ,  4J100BA50P ,  4J100BA56Q ,  4J100BB05P ,  4J100BB07Q ,  4J100BB10Q ,  4J100BB11Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BC03R ,  4J100BC04R ,  4J100BC08R ,  4J100BC09R ,  4J100BC12R ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC43R ,  4J100BC43S ,  4J100BC49S ,  4J100BC83P ,  4J100BC84P ,  4J100CA03 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 新規スルホニウム塩、高分子化合物、高分子化合物の製造方法、レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-021078   出願人：信越化学工業株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-024011   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 反応性近赤外吸収性ポリマー粒子、その調製方法、及びその使用
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2009-524851   出願人：アメリカン・ダイ・ソース・インコーポレーテッド