感放射線性組成物及びその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：山田強 , 廣田美穂 , 安藤悟 , 日野京子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-012571
公開番号（公開出願番号）：特開2012-155047
出願日： 2011年01月25日
公開日（公表日）： 2012年08月16日
要約：

【課題】高反射基板や段差基板に対するリソグラフィ工程において、良好なパターン形状を得ることができる感放射線性組成物を提供する。【解決手段】感放射線性組成物において、ヒドロキシスチレン由来の構造単位(HS1)と、下記式(a-1)で表される基を有する構造単位(a1)とを含有し、かつ酸の作用により解離して酸性官能基を生じる酸解離性基を実質的に有していない重合体[A1]と、ヒドロキシスチレン由来の構造単位(HS2)を含有し、かつ前記酸解離性基を有する重合体[A2]と、を含むものとする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ヒドロキシスチレン由来の構造単位(HS1)と、下記式(a-1)で表される基を有する構造単位(a1)とを含有し、かつ酸の作用により解離して酸性官能基を生じる酸解離性基を実質的に有していない重合体[A1]と、ヒドロキシスチレン由来の構造単位(HS2)を含有し、かつ前記酸解離性基を有する重合体[A2]と、を含む感放射線性組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 , H01L 21/027 , C08F 12/24

FI (3件)：

G03F7/039 601 , H01L21/30 502R , C08F12/24

Fターム (48件)：

2H125AF17P , 2H125AF36P , 2H125AF39P , 2H125AF53P , 2H125AF70P , 2H125AH02 , 2H125AH12 , 2H125AH29 , 2H125AJ04X , 2H125AJ04Y , 2H125AJ13Y , 2H125AJ44X , 2H125AJ48X , 2H125AJ48Y , 2H125AJ52Y , 2H125AJ70Y , 2H125AM12P , 2H125AM13P , 2H125AM15P , 2H125AM22P , 2H125AN39P , 2H125AN57P , 2H125AN58P , 2H125AN86P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB08 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AL08Q , 4J100AM21Q , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA05Q , 4J100BA10Q , 4J100BA12Q , 4J100BA15Q , 4J100BA34Q , 4J100BB01Q , 4J100BC43Q , 4J100BC44Q , 4J100BC49Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (3件)

ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-094780 出願人：富士フイルム株式会社
フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-079033 出願人：住友化学工業株式会社
ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-094783 出願人：富士フイルム株式会社

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