特許
J-GLOBAL ID：200903032036788997
フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-079033
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271977
出願日： 1998年03月26日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：
【要約】【課題】 透過率を低下させることができるとともに、パターン形状などにも優れたフォトレジスト組成物を提供し、またそれに有用な樹脂を提供する。【解決手段】 式(I)(R1、R2及びR3は各々、水素又はC1-4アルキルを表し、R4は水素、C1-4アルキル若しくはC1-4アルコキシを、R5は水素、アルキル若しくはアリールを表すか、又はR4、R5及びそれらが結合する炭素原子2個で炭素環若しくはヘテロ環を形成し、R6は水素、C1-4アルキル、C1-4アルコキシ又は水酸基を表す)の構造単位を有する樹脂を含有するフォトレジスト組成物。酸発生剤を含有する化学増幅型のフォトレジストに有利である。また、式(I)の単位とともに下式(II)の単位を有する樹脂も提供される(R1、R2及びR3は前記のとおり)。
請求項（抜粋）：
下式(I)(式中、R1 、R2 及びR3 は互いに独立に、水素又は炭素数1〜4のアルキルを表し、R4 は水素、炭素数1〜4のアルキル若しくは炭素数1〜4のアルコキシを表し、R5 は水素、アルキル若しくはアリールを表すか、又はR4 とR5 が一緒になって、それらが結合する2個の炭素原子とともに環を形成し、この環はヘテロ環であってもよく、そしてR6 は水素、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシ又は水酸基を表す)で示される構造単位を有する樹脂を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039 601
, C08F 8/14
, C08F212/14
, G03F 7/033
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, C08F 8/14
, C08F212/14
, G03F 7/033
, H01L 21/30 502 R
