特許
J-GLOBAL ID：201203088876985107

レジスト組成物、レジストパターン形成方法

発明者：
清水 宏明

清水 宏明 について

, 
阿部 翔

阿部 翔 について

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仁藤 豪人

仁藤 豪人 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-033630
公開番号（公開出願番号）：特開2012-173419
出願日： 2011年02月18日
公開日（公表日）： 2012年09月10日
要約：
【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、塩基性化合物成分(C)及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有し、酸発生剤成分(B)が、式(b1)で表される化合物を含有し、塩基性化合物成分(C)が、式(c1)〜(c3)で表される化合物の1つ以上を含むレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、塩基性化合物成分(C)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有し、 前記塩基性化合物成分(C)が、下記一般式(c1)で表される化合物(C1)、下記一般式(c2)で表される化合物(C2)、及び下記一般式(c3)で表される化合物(C3)からなる群から選ばれる1つ以上を含むことを特徴とするレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28
FI (6件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28
Fターム (56件)：
2H125AC21 ,  2H125AC79 ,  2H125AF16P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF30P ,  2H125AF33P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AF43P ,  2H125AF45P ,  2H125AH05 ,  2H125AH13 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ18X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN02P ,  2H125AN21P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN63P ,  2H125AN65P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA28P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA05 ,  4J100AL16P ,  4J100BA03P ,  4J100BA20P ,  4J100BC03P ,  4J100BC09P ,  4J100BC59P ,  4J100BC83P ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA39 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100GB02 ,  4J100GB05 ,  4J100GC17 ,  4J100GC26 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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