特許
J-GLOBAL ID:201203090678161144
基板洗浄装置、基板洗浄方法、表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
小川 眞一
, 中原 文彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-040170
公開番号(公開出願番号):特開2012-176353
出願日: 2011年02月25日
公開日(公表日): 2012年09月13日
要約:
【課題】洗浄工程数を減らし、さらに、基板に対する汚染粒子の再付着を防止する。【解決手段】基板洗浄装置1は、基板Wを搬送する搬送部2と、その搬送部2により搬送される基板Wの被洗浄面Sに、酸化膜除去可能な液体中に酸化性ガスを溶存状態および微小気泡状態で有する洗浄液を供給する供給ノズル3とを備え、その供給ノズル3は、被洗浄面S上に到達した微小気泡がサイズ変化を抑えつつ基板Wの外縁まで移動する流速で洗浄液を供給する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板を搬送する搬送部と、
前記搬送部により搬送される前記基板の被洗浄面に、酸化膜除去可能な液体中に酸化性ガスを溶存状態および微小気泡状態で有する洗浄液を供給する供給ノズルと、
を備え、
前記供給ノズルは、前記被洗浄面上に到達した前記微小気泡がサイズ変化を抑えつつ前記基板の外縁まで移動する流速で前記洗浄液を供給することを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (7件):
B08B 3/08
, H01L 21/304
, B08B 3/04
, G02F 1/13
, G02F 1/133
, H01L 29/786
, H01L 21/336
FI (10件):
B08B3/08 A
, H01L21/304 643B
, H01L21/304 647Z
, H01L21/304 643A
, B08B3/04 B
, G02F1/13 101
, G02F1/1333 500
, H01L29/78 617V
, H01L29/78 619A
, H01L29/78 627Z
Fターム (102件):
2H088FA17
, 2H088FA21
, 2H088FA30
, 2H088HA01
, 2H088HA08
, 2H088MA20
, 2H090JB02
, 2H090JB04
, 2H090JC19
, 2H190JB02
, 2H190JB04
, 2H190JC19
, 3B201AA02
, 3B201AA03
, 3B201AB14
, 3B201AB44
, 3B201BB22
, 3B201BB38
, 3B201BB87
, 3B201BB92
, 3B201BB98
, 5F110AA16
, 5F110AA26
, 5F110BB01
, 5F110CC02
, 5F110CC07
, 5F110DD02
, 5F110DD05
, 5F110DD13
, 5F110DD14
, 5F110DD17
, 5F110EE02
, 5F110EE03
, 5F110EE04
, 5F110EE06
, 5F110EE07
, 5F110EE14
, 5F110EE43
, 5F110EE44
, 5F110FF02
, 5F110FF03
, 5F110FF09
, 5F110FF28
, 5F110FF30
, 5F110FF35
, 5F110GG02
, 5F110GG13
, 5F110GG15
, 5F110GG25
, 5F110GG43
, 5F110GG45
, 5F110HJ01
, 5F110HJ04
, 5F110HJ13
, 5F110HJ23
, 5F110HK09
, 5F110HK21
, 5F110HK25
, 5F110HK32
, 5F110HK33
, 5F110HK35
, 5F110HL03
, 5F110HL04
, 5F110HL12
, 5F110HL23
, 5F110HM15
, 5F110NN04
, 5F110NN24
, 5F110NN34
, 5F110NN35
, 5F110NN39
, 5F110PP03
, 5F110PP35
, 5F110QQ09
, 5F110QQ11
, 5F110QQ23
, 5F157AA28
, 5F157AA42
, 5F157AA73
, 5F157AA77
, 5F157AA91
, 5F157AB02
, 5F157AB13
, 5F157AB33
, 5F157AB52
, 5F157AB62
, 5F157AB84
, 5F157AB90
, 5F157AB94
, 5F157AC01
, 5F157AC13
, 5F157BB12
, 5F157BB22
, 5F157BB37
, 5F157BB52
, 5F157BB79
, 5F157BD28
, 5F157BD33
, 5F157BE23
, 5F157BE34
, 5F157BE46
, 5F157DB51
引用特許:
出願人引用 (4件)
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基板処理装置および基板処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-278896
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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特公平4-074056
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基板の処理装置及び処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-112371
出願人:芝浦メカトロニクス株式会社
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特開平3-049223
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審査官引用 (4件)