特許
J-GLOBAL ID：200903030163747580

基板の処理装置及び処理方法

発明者：
和歌月 尊彦

和歌月 尊彦 について

, 
西部 幸伸

西部 幸伸 について


出願人/特許権者：
芝浦メカトロニクス株式会社

芝浦メカトロニクス株式会社 について


代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-112371
公開番号（公開出願番号）：特開2006-289240
出願日： 2005年04月08日
公開日（公表日）： 2006年10月26日
要約：
【課題】この発明は基板を傾斜させて搬送する場合に、基板を精度よく洗浄することができるようにした処理装置を提供することにある。【解決手段】洗浄チャンバと、基板Wを搬送方向と交差する方向に所定の角度で傾斜させて上記洗浄チャンバ内を搬送する搬送ローラと、搬送される基板の上方にこの基板の搬送方向と交差する方向に沿って一列に配置され基板に上記洗浄液を細長いパターンPで噴射する複数のノズルとを具備し、複数のノズルは、基板上に噴射される隣り合う洗浄液のパターンが基板の搬送方向と交差する方向に対して隙間が生じることがないよう配置されている。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基板を洗浄液で洗浄処理する処理装置であって、 洗浄チャンバと、 上記基板を搬送方向と交差する方向に所定の角度で傾斜させて上記洗浄チャンバ内を搬送する搬送手段と、 搬送される基板の上方にこの基板の搬送方向と交差する方向に沿って一列に配置され上記基板に上記洗浄液を細長いパターンで噴射する複数のノズルとを具備し、 上記複数のノズルは、上記基板上に噴射される隣り合う洗浄液のパターンが上記基板の搬送方向と交差する方向に対して隙間が生じることがないよう配置されていることを特徴とする基板の処理装置。
IPC (5件)：
B08B 3/02 ,  B05C 5/00 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133 ,  H01L 21/304
FI (7件)：
B08B3/02 C ,  B05C5/00 Z ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500 ,  H01L21/304 643B ,  H01L21/304 651G ,  H01L21/304 651L
Fターム (17件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AB14 ,  3B201BB22 ,  3B201BB33 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CC12 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041BA21
引用特許：
審査官引用 (8件)
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