特許

J-GLOBAL ID：201203092064677970

塩、フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： 山口 訓史 ,  市川 幸司
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-001782
公開番号（公開出願番号）：特開2012-006908
出願日： 2011年01月07日
公開日（公表日）： 2012年01月12日
要約：

【課題】より優れた解像度及びフォーカスマージン(DOF)を有するパターンを形成することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩。[式(I)中、Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基;L1は、*-CO-O-La-又は*-CH2-O-Lb-を表す。*は-C(Q1)(Q2)-との結合手を表す。La及びLbは、互いに独立に、2価の炭素数1〜15の飽和炭化水素基を表し、前記2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい;W1は、炭素数2〜36の複素環を表し、該複素環に含まれる-CH2-は-O-で置き換わっていてもよい;Z1+は有機対イオンを表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される塩。

IPC (8件)：

C07D 295/08 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07C 381/12 ,  C07C 25/00 ,  C09K 3/00 ,  C07D 295/14

FI (8件)：

C07D295/08 Z ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C07C381/12 ,  C07C25/00 ,  C09K3/00 K ,  C07D295/14 Z

Fターム (28件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF19P ,  2H125AF21P ,  2H125AF26P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB80 ,  4H006EA21

引用特許：

審査官引用 (2件)

• レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物およびその製造方法、ならびに酸発生剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-254156   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-132546   出願人：富士写真フイルム株式会社