特許
J-GLOBAL ID：200903044588281070

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物およびその製造方法、ならびに酸発生剤

発明者：
内海 義之

内海 義之 について

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羽田 英夫

羽田 英夫 について

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瀬下 武広

瀬下 武広 について

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清水 宏明

清水 宏明 について

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吉井 靖博

吉井 靖博 について

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三村 岳由

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出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

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代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-254156
公開番号（公開出願番号）：特開2009-209128
出願日： 2008年09月30日
公開日（公表日）： 2009年09月17日
要約：
【課題】新規な酸発生剤を含有するレジスト組成物を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分(B)が、一般式(b1-1)[式中、RNは窒素原子を有する有機基であり;R1はアルキレン基であり;Y1は炭素数1〜4のアルキレン基またはフッ素化アルキレン基であり;Z+は有機カチオン(ただしN+(R3)(R4)(R5)(R6)で表されるイオンを除く。R3〜R6はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を有していてもよい炭化水素基であり、R3〜R6のうちの少なくとも1つは前記炭化水素基であり、R3〜R6のうちの少なくとも2つが相互に結合して環を形成していてもよい。)である。]で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含む。[化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b1-1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
IPC (4件)：
C07D 213/79 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004
FI (4件)：
C07D213/79 ,  C09K3/00 K ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A
Fターム (29件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4C055AA01 ,  4C055BA01 ,  4C055CA01 ,  4C055DA57 ,  4C055DB16 ,  4C071AA03 ,  4C071BB02 ,  4C071CC12 ,  4C071EE05 ,  4C071FF15 ,  4C071HH05 ,  4C071HH08 ,  4C071LL05
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (1件)

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