特許
J-GLOBAL ID:201203096866659077

触媒

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中島 司朗
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-540239
公開番号(公開出願番号):特表2012-512011
出願日: 2009年11月13日
公開日(公表日): 2012年05月31日
要約:
使用済みの微粒子ワックス含有コバルト系フィッシャー・トロプシュ合成触媒の触媒再生プロセスを提供する。本触媒再生プロセスにおいて、前記使用済みのワックス含有触媒には、脱蝋処理、酸化処理、そして還元処理が順番に実施される。脱蝋処理においては、使用済みのワックス含有触媒の少なくとも一部が脱蝋され、脱蝋後触媒粒子が生成される。酸化処理においては、動作温度T°C(150<T<450)の脱蝋後触媒粒子の触媒粒子床に酸素含有気体が通され、さらに、冷却装置を用いて触媒粒子床から熱を除去することで動作温度の制御が行われ、それによって酸化触媒粒子が得られる。そして、還元処理においては、酸化触媒粒子を還元することで触媒再生が行われる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
使用済みの微粒子ワックス含有コバルト系フィッシャー・トロプシュ合成触媒の触媒再生プロセスであって、前記触媒再生プロセスは、前記使用済みの微粒子ワックス含有コバルト系フィッシャー・トロプシュ合成触媒に対して順番に実施される複数の処理を含み、それら処理とは、 (i) 使用済みの微粒子ワックス含有コバルト系フィッシャー・トロプシュ合成触媒の少なくとも一部を脱蝋して脱蝋後触媒粒子を生成する脱蝋処理と、 (ii)動作温度T°C(150<T<450)の脱蝋後触媒粒子の触媒粒子床に酸素含有気体を通し、さらに、冷却装置を用いて触媒粒子床から熱を除去することで動作温度の制御を行い、それによって酸化触媒粒子を得る酸化処理と、 (iii)酸化触媒粒子を還元することで触媒再生を行う還元処理と、であること、 を特徴とする触媒再生プロセス。
IPC (7件):
B01J 38/04 ,  B01J 38/12 ,  B01J 38/02 ,  B01J 23/89 ,  B01J 38/10 ,  B01J 38/56 ,  C10G 2/00
FI (7件):
B01J38/04 A ,  B01J38/12 B ,  B01J38/02 ,  B01J23/89 Z ,  B01J38/10 B ,  B01J38/56 ,  C10G2/00
Fターム (28件):
4G169AA10 ,  4G169BA01B ,  4G169BC67A ,  4G169BC67B ,  4G169BC75B ,  4G169CC23 ,  4G169DA08 ,  4G169GA01 ,  4G169GA05 ,  4G169GA06 ,  4G169GA10 ,  4H039CA19 ,  4H039CL35 ,  4H129AA01 ,  4H129BA12 ,  4H129BB07 ,  4H129BC43 ,  4H129BC44 ,  4H129KA15 ,  4H129KB03 ,  4H129KB10 ,  4H129KC03Y ,  4H129KD22X ,  4H129KD22Y ,  4H129KD26Y ,  4H129KD44Y ,  4H129NA21 ,  4H129NA37
引用特許:
審査官引用 (10件)
  • スラリー状フィッシャー-トロプシュ触媒の再生方法
    公報種別:公表公報   出願番号:特願2002-583078   出願人:シントロレウムコーポレイション
  • 特開昭64-056147
  • 担持触媒処理
    公報種別:公表公報   出願番号:特願2003-563721   出願人:エクソンモービルリサーチアンドエンジニアリングカンパニー
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