特許

J-GLOBAL ID：201203097472407575

パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜

発明者： 岩戸 薫 ,  片岡 祥平
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (1件)： 高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-259577
公開番号（公開出願番号）：特開2012-113003
出願日： 2010年11月19日
公開日（公表日）： 2012年06月14日
要約：

【課題】有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、パターンの線幅均一性及び感度の現像時間依存性のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。【解決手段】(ア)(A)樹脂中の全繰り返し単位に対して、アルコール性水酸基を有する繰り返し単位を35モル%以上含有し、かつ酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂と、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有する化学増幅型レジスト組成物によって膜を形成する工程、 (イ)該膜を露光する工程、及び (ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程 を含み、形成されるパターンがネガ型である、パターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(ア)(A)樹脂中の全繰り返し単位に対して、アルコール性水酸基を有する繰り返し単位を35モル%以上含有し、かつ酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂と、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有する化学増幅型レジスト組成物によって膜を形成する工程、 (イ)該膜を露光する工程、及び (ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程 を含み、形成されるパターンがネガ型である、パターン形成方法。

IPC (5件)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28

FI (5件)：

G03F7/32 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28

Fターム (100件)：

2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096EA05 ,  2H096GA03 ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF19P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH07 ,  2H125AH12 ,  2H125AH13 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ16Y ,  2H125AJ18X ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ67X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ87Y ,  2H125AJ88Y ,  2H125AJ92Y ,  2H125AL02 ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AL22 ,  2H125AM12P ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AM30P ,  2H125AM32P ,  2H125AM43P ,  2H125AM66P ,  2H125AM86P ,  2H125AM99P ,  2H125AN08P ,  2H125AN11P ,  2H125AN30P ,  2H125AN37P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN50P ,  2H125AN51P ,  2H125AN54P ,  2H125AN56P ,  2H125AN57P ,  2H125AN63P ,  2H125AN65P ,  2H125AN86P ,  2H125AN88P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4J100AJ02R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA11Q ,  4J100BC03R ,  4J100BC04P ,  4J100BC04R ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC12R ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ネガ型現像用レジスト組成物、これを用いたパターン形成方法、レジスト膜、及び、パターン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-282310   出願人：富士フイルム株式会社
• パターン形成方法、それに用いられるレジスト組成物、ネガ型現像用現像液及びネガ型現像用リンス液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-227976   出願人：富士フイルム株式会社
• ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-190808   出願人：富士フイルム株式会社