特許
J-GLOBAL ID：200903048464151093
ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-190808
公開番号（公開出願番号）：特開2009-025707
出願日： 2007年07月23日
公開日（公表日）： 2009年02月05日
要約：
【課題】高集積且つ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ラインエッジラフネスが小さく、パターン倒れ性能が良好なネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A1)特定の脂環炭化水素構造から選ばれる部分構造を有する酸分解性の繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する第1の樹脂、(A2)酸分解性の繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少し、且つ酸分解性の繰り返し単位の平均含有率が、樹脂(A1)の酸分解性の繰り返し単位の平均含有率とは異なる第2の樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A1)下記一般式(pI)〜(pV)から選ばれる部分構造を有する酸分解性の繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する第1の樹脂、(A2)酸分解性の繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少し、且つ酸分解性の繰り返し単位の平均含有率が、樹脂(A1)の酸分解性の繰り返し単位の平均含有率とは異なる第2の樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/038
, G03F 7/32
, H01L 21/027
, G03F 7/039
, G03F 7/004
G03F7/038 601
, G03F7/32
, H01L21/30 502R
, G03F7/039 601
, G03F7/004 515
2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD07
, 2H025BD43
, 2H025BE00
, 2H025CC03
, 2H025FA15
, 2H096AA25
, 2H096AA27
, 2H096BA06
, 2H096BA20
, 2H096EA05
