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J-GLOBAL ID：201302105838991468   整理番号：95A0875553

ビス(トリメチル)シリルアミド錯化合物M(N(SiMe₃)₂)_nを用いた鉄,マンガン,コバルト,銅,ゲルマニウム及びすずの金属薄膜の低圧化学蒸着

Low Pressure Chemical Vapor Deposition of Metallic Films of Iron, Manganese, Cobalt, Copper, Germanium and Tin Employing Bis(trimethyl)silylamido Complexes, M(N(SiMe₃)₂)_n.

著者 (5件)： BAXTER D V (Indiana Univ., IN, USA) ,  CHISHOLM M H (Indiana Univ., IN, USA) ,  GAMA G J (Indiana Univ., IN, USA) ,  HECTOR A L (London Univ., London, GBR) ,  PARKIN I P (London Univ., London, GBR)
資料名： Chemical Vapor Deposition  (Chemical Vapor Deposition)
巻： 1  号： 2  ページ： 49-51  発行年： 1995年09月 
JST資料番号： W0908A  ISSN： 0948-1907  CODEN： CVDEFX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学蒸着法による高純度金属薄膜の研究をM(N(SiMe<su...

シソーラス用語： 金属薄膜 ,...

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分類 (1件)： 気相めっき  (WC08022K)

タイトルに関連する用語 (10件)： ビス ,  錯化合物 ,  鉄 ,  マンガン ,  コバルト ,  銅 ,  ゲルマニウム ,  すず ,  金属薄膜 ,  低圧化学蒸着