文献

J-GLOBAL ID：201302211434858947   整理番号：13A0075914

シリコン薄膜上に形成したナノギャップ金構造の機械的なギャップ幅制御と散乱分光特性

著者 (6件)： 矢座寛人 (北大 電子科研) ,  伊藤弘子 (北大 電子科研) ,  中野和佳子 (北大 電子科研) ,  上野貢生 (北大 電子科研) ,  上野貢生 (JST-さきがけ) ,  三澤弘明 (北大 電子科研)
資料名： 光化学討論会講演要旨集  (Annual Meeting on Photochemistry)
巻： 2012  ページ： 272  発行年： 2012年09月07日 
JST資料番号： L0850A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *間隙 ,  共鳴 ,  半導体薄膜 ,  *金 ,  *ナノ構造 ,  散乱光 ,  スペクトル ,  シリコン薄膜 ,  *散乱スペクトル
準シソーラス用語： *ナノギャップ ,  *プラズモン共鳴

分類 (3件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  固体プラズマ  (BM02160W) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E)

タイトルに関連する用語 (5件)： シリコン薄膜 ,  ナノギャップ ,  ギャップ幅 ,  散乱 ,  分光特性