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J-GLOBAL ID：201302213490947610   整理番号：13A0241648

低速の陽電子を大気中で利用する技術 機能性薄膜の分子間空隙を“その場”評価

著者 (12件)： 大島永康 (産業技術総合研) ,  伊藤賢志 (産業技術総合研) ,  ZHOU Wei (産業技術総合研) ,  O’ROURKE Brian (産業技術総合研) ,  木野村淳 (産業技術総合研) ,  大平俊行 (産業技術総合研) ,  鈴木良一 (産業技術総合研) ,  黒田隆之助 (産業技術総合研) ,  柳下宏 (産業技術総合研) ,  筒井拓朗 (筑波大) ,  上殿明良 (筑波大) ,  林崎規託 (東京工大)
資料名： 産総研TODAY(Web)
巻： 12  号： 12  ページ： 15 (WEB ONLY)  発行年： 2012年12月 
JST資料番号： U0301A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (6件)： 低速 ,  陽電子 ,  大気中 ,  機能性薄膜 ,  空隙 ,  評価