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J-GLOBAL ID:201302213837156490   整理番号:13A1779033

Ar/CF4大気圧プラズマプロセシング後の溶融石英表面のモルフォロジーと化学的発展

The morphology and chemistry evolution of fused silica surface after Ar/CF4 atmospheric pressure plasma processing
著者 (6件):
資料名:
巻: 286  ページ: 405-411  発行年: 2013年12月01日 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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溶融石英に対するプラズマエッチングプロセスを解明するために,Ar/CF4大気圧プラズマプロセシング後の溶融石英表面の表面特性評価を行った。溶融石英表面のモルフォロジーと化学的進化をそれぞれAFMとXPSで解析した。AFM画像は3次元的表面トポグラフィを示し,RMS粗度は材料除去深さの増加と共に変化した。表面はプラズマエッチングが最上層で起きている時により滑らかになるように見えた。しかしながら,化学的に修飾された層が除去された後では,エッチングは一連のピットの形成をもたらした。エッチングを進めると,個々のピットは互いに合体した。この合体は表面下損傷の深さとRMS粗度の低減の手段を提供する。XPSの結果はC-CFnとCF-CFnを含むラジカルの少量がAr/CF4プラズマエッチングプロセスの過程で溶融石英表面上に導入され,CF4プラズマイオン化の過程でフルオロカーボンラジカルが発生することを例証した。除去深さと共に変化するフルオロカーボンラジカルC-CFnの相対濃度の変化を研究した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
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固体デバイス製造技術一般  ,  プラズマ応用  ,  固体の表面構造一般 
物質索引 (1件):
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