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J-GLOBAL ID：201302216568976034   整理番号：13A0143896

Lewis酸性塩化アルミニウム-塩化1-エチル-3-メチルイミダゾリウム溶融塩から得たアルミニウム-ハフニウム合金の電着

Electrodeposition of aluminum-hafnium alloy from the Lewis acidic aluminum chloride-1-ethyl-3-methylimidazolium chloride molten salt

著者 (6件)： TSUDA Tetsuya (Osaka Univ., Dep. of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, 2-1 Yamada-oka, 565-0871, Suita, Osaka, JPN) ,  TSUDA Tetsuya (Osaka Univ., Frontier Res. Base for Global Young Researchers, Graduate School of Engineering, 2-1 Yamada-oka ...) ,  KUWABATA Susumu (Osaka Univ., Dep. of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, 2-1 Yamada-oka, 565-0871, Suita, Osaka, JPN) ,  KUWABATA Susumu (Japan Sci. and Technol. Agency, Core Res. for Evolutional Sci. and Technol., 332-0012, Saitama, Kawaguchi, JPN) ,  STAFFORD Gery R. (National Inst. of Standards and Technol., Material Measurement Lab., 20899, Gaithersburg, MD, USA) ,  HUSSEY Charles L. (The Univ. of Mississippi, Dep. of Chemistry and Biochemistry, 38677-1848, Univ., MS, USA)
資料名： Journal of Solid State Electrochemistry  (Journal of Solid State Electrochemistry)
巻： 17  号： 2  ページ： 409-417  発行年： 2013年02月 
JST資料番号： W1021A  ISSN： 1432-8488  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Hf(IV)の電気化学およびAl-Hf合金の電着を,HfCl₄を66.7-33.3mol%含有するルイス酸性塩化アルミニウム-塩化1-エチル-3-メチルイミダゾリウム溶融塩中で調べた。サイクリック階段型ボルタンメトリーを本溶融塩中の白金ディスク電極で実験すると,各々負あるいは正電位にシフトしたAlの堆積および脱離波形は,Al-Hf合金の生成で脱離がより困難になることを示唆していた。13原子%Hfを含有するAl-Hf合金電着物がCu回転ワイヤおよび円筒上に生成した。Al-Hf合金中のHf含有量は溶融塩のHfCl₄濃度,電着温度および印加した電流密度に依存した。電着物は高密度の結晶からなっており,完全に塩素フリーであった。得たAl-Hf合金の塩素誘起の孔食電位は,Hf濃度が10%以上のとき,純アルミニウムを基準として約+0.3Vであった。Copyright 2012 Springer-Verlag Berlin Heidelberg Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ハフニウム合金 ,  *アルミニウム合金 ,  *電着 ,  *融解塩電解 ,  Lewis酸 ,  塩化アルミニウム ,  サイクリックボルタンメトリー ,  孔食

分類 (1件)： 電気化学反応  (CB07050F)

物質索引 (1件)： 1-エチル-3-メチルイミダゾリウム

タイトルに関連する用語 (7件)： Lewis酸性 ,  塩化アルミニウム ,  1-エチル-3-メチルイミダゾリウム ,  溶融塩 ,  アルミニウム ,  ハフニウム合金 ,  電着