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J-GLOBAL ID：201302216812705064   整理番号：13A0851934

紫外線照射下でアルキル基修飾したシリコンナノ粒子の発光特性

著者 (8件)： 鈴木涼子 (東京電機大) ,  山下将武 (東京電機大) ,  藤岡宏樹 (東京慈恵会医大) ,  佐藤慶介 (物質・材料研究機構) ,  深田直樹 (物質・材料研究機構) ,  平栗健二 (東京電機大) ,  馬目佳信 (東京慈恵会医大) ,  山本健二 (国立国際医療研究セ)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 60th  ページ： ROMBUNNO.28P-B8-3  発行年： 2013年03月11日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ナノ粒子 ,  *アルキル基 ,  *化学修飾 ,  *紫外線照射 ,  量子サイズ効果 ,  バンドギャップ ,  エネルギー ,  可視発光スペクトル ,  安定性 ,  水素 ,  RFスパッタリング ,  RTA【熱処理】 ,  ウエハ【IC】 ,  赤外吸収スペクトル ,  表面処理 ,  *光ルミネセンス ,  *ケイ素 ,  FTIRスペクトル ,  バンドギャップエネルギー ,  表面保護 ,  シリコンウエハ
準シソーラス用語： シリコン基板

分類 (1件)： 半導体のルミネセンス  (BM08092S)

タイトルに関連する用語 (5件)： 紫外線照射 ,  アルキル基 ,  修飾 ,  シリコンナノ粒子 ,  発光特性