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J-GLOBAL ID：201302218413436133   整理番号：13A0604761

超薄変形シリコンナノワイアにおける応力の再分布に誘導された混合ナノパターン形成

Complex nanopatterning induced redistribution of stress in single ultrathin strained silicon nanowires

著者 (9件)： BALOIS Maria Vanessa (RIKEN) ,  BALOIS Maria Vanessa (Tokyo Inst. Technol.) ,  HAYAZAWA Norihiko (RIKEN) ,  HAYAZAWA Norihiko (Tokyo Inst. Technol.) ,  TARUN Alvarado (RIKEN) ,  MOUTANABBIR Oussama (RIKEN) ,  MOUTANABBIR Oussama (Ecole Polytechnique de Montreal) ,  KAWATA Satoshi (RIKEN) ,  KAWATA Satoshi (Osaka Univ.)
資料名： 日本分光学会年次講演会  (Annual Meeting of the Spectroscopical Society of Japan)
巻： 2012  ページ： 109  発行年： 2012年 
JST資料番号： L0419B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *ナノワイヤ ,  *小型 ,  *応力 ,  再分布 ,  *パターン形成 ,  Raman分光法 ,  偏光分光法 ,  変形
準シソーラス用語： *ナノパターン形成 ,  *超薄型

分類 (3件)： 分光分析  (CC03012W) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  半導体の赤外スペクトル及びRaman散乱・Ramanスペクトル  (BM08066B)

タイトルに関連する用語 (6件)： シリコン ,  ナノワイア ,  応力 ,  再分布 ,  誘導 ,  ナノパターン形成