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J-GLOBAL ID：201302219905002410   整理番号：13A0840914

イオンビームスパッタ蒸着により作製したSiBCN膜の機械的性質および熱安定性

Mechanical properties and thermal stability of SiBCN films prepared by ion beam assisted sputter deposition

著者 (4件)： CHOI Junho (Dep. of Mechanical Engineering, The Univ. of Tokyo, 7-3-1 Hongo, Bunkyo-Ku, Tokyo 113-8656, JPN) ,  HAYASHI Naohiro (Dep. of Mechanical Engineering, The Univ. of Tokyo, 7-3-1 Hongo, Bunkyo-Ku, Tokyo 113-8656, JPN) ,  KATO Takahisa (Dep. of Mechanical Engineering, The Univ. of Tokyo, 7-3-1 Hongo, Bunkyo-Ku, Tokyo 113-8656, JPN) ,  KAWAGUCHI Masahiro (Advanced Material Processing Group, Tokyo Metropolitan Industrial Technol. Res. Inst., 2-4-10 Aomi, Koto-Ku, Tokyo ...)
資料名： Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)
巻： 34  ページ： 95-99  発行年： 2013年04月 
JST資料番号： W0498A  ISSN： 0925-9635  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： バルクSi-B-C-Nセラミックの高硬度,例外的高温安定性および耐酸化性から,これらの材料は,高温応用向けの優れた被覆材料用の優れた候補となるであろうと期待されている。本研究では,イオンビーム支援スパッタ(IBAS)蒸着を使ってSiBCN膜を調製し,膜の空気中600,700および800°Cにおける機械的性質および熱安定性を調べた。特に,SiBCN膜の性質に及ぼすイオンビーム支援の効果を調べた。SiBCN膜は,Si+BN+Cから成るターゲットを2-keV Ar⁺イオンビームを使ってスパッタリングすることによりSi板上に蒸着した。SiBCN膜中のSi含量は,ターゲットのSi/(BN+C)比を変えることにより調節した。作製した膜の組成および化学結合構造は,X線光電子分光法およびFourier変換赤外分光法により調べた。c-BN結合が,イオン支援BCN膜中に生成することが分った。熱アニーリング後にSiBCN膜上の酸化物層の厚みは,IBAS蒸着,そしてSi含量の増加により減少した。800°Cでアニールしたイオン支援SiBCN膜は,20GPaの最高の硬度を示した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *炭化物 ,  *窒化物 ,  *ホウ化物 ,  *ケイ素化合物 ,  *セラミック膜 ,  基板 ,  ケイ素 ,  *イオンビームスパッタリング ,  *機械的性質 ,  *熱安定性 ,  硬度 ,  高温 ,  耐酸化性 ,  化学組成 ,  化学結合 ,  焼なまし
準シソーラス用語： IBAS ,  アニール ,  炭窒化物

分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (5件)： イオンビーム ,  スパッタ蒸着 ,  作製 ,  機械的性質 ,  熱安定性