文献

J-GLOBAL ID：201302220109380401   整理番号：13A1897860

重イオンビーム照射によるナノ空間制御材料の創製

Fabrication of nano space controlled materials using high-energy heavy ion irradiation

著者 (7件)： 鷲尾方一 (早大 理工研) ,  濱義昌 (早大 理工研) ,  坂上和之 (早大 理工研) ,  工藤久明 (東大 大学院) ,  岡壽崇 (大阪大 産科研) ,  大島明博 (大阪大 産科研) ,  村上健 (放医研)
資料名： NIRS-M (National Inst. of Radiological Sciences)  (NIRS-M (National Inst. of Radiological Sciences))
号： 260  ページ： 214-215  発行年： 2013年08月 
JST資料番号： Z0881A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 重イオン照射 ,  *固体高分子形燃料電池 ,  粒子飛跡 ,  *グラフト共重合 ,  空間 ,  *高分子膜 ,  マスク ,  *フッ素化重合体 ,  FEP樹脂 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  ナノ空間 ,  高分子電解質膜
準シソーラス用語： ステンシルマスク ,  SEM-EDX

分類 (2件)： 共重合  (CG04030D) ,  燃料電池  (YB04040V)

タイトルに関連する用語 (3件)： イオンビーム照射 ,  ナノ空間 ,  創製