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J-GLOBAL ID：201302225177725591   整理番号：13A1447084

UV-NILによる自立反射防止構造薄膜の製作

Fabrication of self-supporting antireflection-structured film by UV-NIL

著者 (2件)： ABU TALIP[A]YUSOF Nurhafizah B ,  TANIGUCHI Jun
資料名： Microelectronic Engineering  (Microelectronic Engineering)
巻： 110  ページ： 163-166  発行年： 2013年10月 
JST資料番号： C0406B  ISSN： 0167-9317  CODEN： MIENEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 紫外線ナノインプリントリソグラフィー(UV-NIL)は,フラットパネルディスプレイ,携帯電話のディスプレイ,太陽電池の表面,光学レンズなどに広く使用されている反射防止(AR)構造をもつ薄膜(AR薄膜)の製作の強力なツールである。AR薄膜を製作するため,製作されたAR構造を透明なポリエチレンテレフタレート(PET)上のUV硬化型樹脂に複製した。しかしながら,AR構造ポリマとPET薄膜の間の界面は高い界面反射を引き起こした。したがって,界面反射を消去できる自立ARポリマ薄膜が必要となった。前の研究では,自立ポリマ薄膜を得るための中間物としてポリビニルアルコール(PVA)薄膜が使用されたが,その自立薄膜の耐久性は非常に低かった。本研究では,PVA薄膜の代わりに,中間薄膜として,自立ARポリマ薄膜に対し安定性を与えるポリプロピレン(PP)薄膜を使用した。また,自立薄膜の剥離力と接着力を評価した。製作された自立AR構造薄膜は430~950nmのスペクトル領域で0.2~0.3%の反射率を示した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 反射防止膜 ,  光重合型樹脂 ,  イオン照射 ,  高分子薄膜 ,  ガラス状炭素 ,  *リソグラフィー ,  膜
準シソーラス用語： *UVナノインプリントリソグラフィー ,  UV硬化型樹脂 ,  イオンビーム照射 ,  自立膜 ,  反射防止構造

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 自立 ,  反射防止構造 ,  薄膜 ,  製作