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J-GLOBAL ID：201302227212476772   整理番号：13A1894313

トリメチルシリル化による配向メソ多孔質シリカ上のパイロカーボン蒸着の顕著な増大

Remarkable enhancement of pyrolytic carbon deposition on ordered mesoporous silicas by their trimethylsilylation

著者 (7件)： HOSHIKAWA Yasuto (Inst. of Multidisciplinary Res. for Advanced Materials, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN) ,  CASTRO-MUNIZ Alberto (Inst. of Multidisciplinary Res. for Advanced Materials, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN) ,  KOMIYAMA Hiroshi (Inst. of Multidisciplinary Res. for Advanced Materials, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN) ,  ISHII Takafumi (Inst. of Multidisciplinary Res. for Advanced Materials, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN) ,  YOKOYAMA Takuji (Taiyo Kagaku Co., Ltd., Res. and Developments, 1-3 Takaramachi, Yokkaichi, Mie 510-0844, JPN) ,  NANBU Hironobu (Taiyo Kagaku Co., Ltd., Res. and Developments, 1-3 Takaramachi, Yokkaichi, Mie 510-0844, JPN) ,  KYOTANI Takashi (Inst. of Multidisciplinary Res. for Advanced Materials, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN)
資料名： Carbon  (Carbon)
巻： 67  ページ： 156-167  発行年： 2014年02月 
JST資料番号： H0270B  ISSN： 0008-6223  CODEN： CRBNA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本紙は,600°Cの低温度での化学蒸着(CVD)によって,メソ多孔質シリカ(MPS)の気孔壁上に薄い炭素層を均一に蒸着する新規で簡単な方法を提案する。4タイプのMPSsをトリメチルシリル化して,次に,シリル化MPSsをアセチレンを使用するCVDに供した。シリル化のおかげで,パイロカーボンの蒸着は大きく増高した。3タイプのMPSsでは,メソ細孔構造の表面のみに非常に薄い層で炭素が蒸着した結果,炭素被覆MPSsが依然として高い表面積と大きい細孔容積を保つことがわかった。CVDの際のトリメチルシリル基の分解はシリカ表面でのSiラジカルの生成をもたらして,その触媒作用が均一な炭素被覆を説明できる。すなわち,アセチレンの3量化を促進し,ベンゼンを形成し,炭化を誘発する。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *炭素材 ,  パイログラファイト ,  多孔質体 ,  被覆 ,  シリル化 ,  *化学蒸着 ,  細孔構造 ,  超薄膜 ,  反応機構 ,  ケイ素 ,  触媒活性 ,  アルキン ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ

分類 (3件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  反応操作(単位反応)  (XE01040I)

物質索引 (2件)： ヘキサメチルジシロキサン ,  アセチレン

タイトルに関連する用語 (4件)： トリメチルシリル化 ,  配向 ,  メソ多孔質シリカ ,  蒸着