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J-GLOBAL ID:201302228765792911   整理番号:13A1514918

ナノサイズ以下の多孔性シリカ中で合成した酸化タングステン量子ドットのバンドギャップ拡張

Band-gap expansion of tungsten oxide quantum dots synthesized in sub-nano porous silica
著者 (5件):
資料名:
巻: 49  号: 76  ページ: 8477-8479  発行年: 2013年10月04日 
JST資料番号: D0376B  ISSN: 1359-7345  CODEN: CHCOFS  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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ナノサイズ以下の多孔性シリカを鋳型として用いることにより,WO3量子ドットを調製した。得られた量子ドットについて,電子顕微鏡観察,X線光電子スペクトル,エネルギー分散X線分光分析,吸収スペクトル,ESRによりキャラクタライズした。この量子ドットは,量子サイズ効果により,バンドギャップが拡張することがわかった。バンドギャップエネルギーは,2.6eVから3.7eVの間で調整することができた。このバンドギャップの調整により,WO3量子ドットを光触媒として用い,紫外線照射により酸素を単一電子還元できることがわかった。
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分類 (4件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
塩基,金属酸化物  ,  光化学反応  ,  その他の触媒  ,  半導体結晶の電子構造 

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