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J-GLOBAL ID：201302230243552427   整理番号：13A1094683

高分子材料への重イオンビーム照射効果に関する研究-化学構造の違いによる反応の局所性-

High-energy heavy ion irradiation effects on polymer materials-Localization of chemical reaction by different chemical structures-

著者 (7件)： 鷲尾方一 (早大 理工研) ,  濱義昌 (早大 理工研) ,  坂上和之 (早大 理工研) ,  工藤久明 (東大 大学院) ,  岡壽崇 (原子力機構) ,  大島明博 (大阪大 産科研) ,  村上健 (放医研)
資料名： NIRS-M (National Inst. of Radiological Sciences)  (NIRS-M (National Inst. of Radiological Sciences))
号： 234  ページ： 203-204  発行年： 2010年06月 
JST資料番号： Z0881A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *重イオン照射 ,  材料 ,  分子構造 ,  ポリテトラフルオロエチレン ,  ETFE ,  医療機器 ,  エッチング ,  ESR【磁気共鳴】 ,  微細加工 ,  切断 ,  芳香族炭化水素 ,  ビニル化合物 ,  高分子材料 ,  分子鎖切断
準シソーラス用語： HIMAC ,  ラジカル種 ,  ラジカル分布

分類 (2件)： 放射線化学一般  (CB09010B) ,  その他の粒子による反応・散乱  (BG04080F)

物質索引 (1件)： スチレン

タイトルに関連する用語 (6件)： 高分子材料 ,  重イオンビーム ,  照射効果 ,  研究 ,  化学構造 ,  局所性