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J-GLOBAL ID：201302236384013943   整理番号：13A1094863

重イオンビーム照射によるナノ空間制御材料の創製

Fabrication of nano space controlled materials using high-energy heavy ion irradiation

著者 (7件)： 鷲尾方一 (早大 理工研) ,  濱義昌 (早大 理工研) ,  坂上和之 (早大 理工研) ,  工藤久明 (東大 大学院) ,  岡壽崇 (原子力機構) ,  大島明博 (大阪大 産科研) ,  村上健 (放医研)
資料名： NIRS-M (National Inst. of Radiological Sciences)  (NIRS-M (National Inst. of Radiological Sciences))
号： 244  ページ： 195-196  発行年： 2011年11月 
JST資料番号： Z0881A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 重イオンビーム ,  ポリテトラフルオロエチレン ,  FEP樹脂 ,  基 ,  *化学修飾 ,  オレフィン化合物 ,  芳香族化合物 ,  X線光電子分光法 ,  医療機器 ,  *重イオン照射 ,  *微細加工 ,  *フッ素樹脂 ,  キセノン ,  エッチング ,  固体高分子形燃料電池 ,  *グラフト化【化学修飾】 ,  スルホ基 ,  スチレン類
準シソーラス用語： PTFE ,  スルホン酸基 ,  *グラフト化 ,  スチレン誘導体 ,  HIMAC

分類 (2件)： 加工工程とその装置一般  (YH04010G) ,  その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V)

タイトルに関連する用語 (3件)： イオンビーム照射 ,  ナノ空間 ,  創製