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J-GLOBAL ID：201302250549032770   整理番号：13A1087909

Effect of hydrogen atmosphere in Cu thin film growth by chemical vapor deposition using Cu(dmamb)2

著者 (8件)：
CHOI Jong Mun

CHOI Jong Mun について

(Material Sci. and Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR)

Material Sci. and Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR について

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LEE Dohan

LEE Dohan について

(Material Sci. and Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR)

Material Sci. and Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR について

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PARK Ji Hun

PARK Ji Hun について

(Material Sci. and Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR)

Material Sci. and Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR について

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KIM Chang Gyoun

KIM Chang Gyoun について

(Advanced Materials Div., Korea Res. Inst. of Chemical Technol., Daejeon 305-600, KOR)

Advanced Materials Div., Korea Res. Inst. of Chemical Technol., Daejeon 305-600, KOR について

, 
CHUNG Taek-mo

CHUNG Taek-mo について

(Advanced Materials Div., Korea Res. Inst. of Chemical Technol., Daejeon 305-600, KOR)

Advanced Materials Div., Korea Res. Inst. of Chemical Technol., Daejeon 305-600, KOR について

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KIM Baek-mann

KIM Baek-mann について

(R&D Div., Hynix Semiconductor Inc., Icheon 467-701, KOR)

R&D Div., Hynix Semiconductor Inc., Icheon 467-701, KOR について

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BYUN Dongjin

BYUN Dongjin について

(Material Sci. and Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR)

Material Sci. and Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR について

, 
BYUN Dongjin

BYUN Dongjin について

(Nano Semiconductor Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR)

Nano Semiconductor Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR について


資料名：
Microelectronic Engineering  (Microelectronic Engineering)

Microelectronic Engineering について


巻： 89  ページ： 109-115  発行年： 2012年01月 
JST資料番号： C0406B  ISSN： 0167-9317  CODEN： MIENEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
タイトルに関連する用語 (1件)：
タイトルに関連する用語
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Cu

Cu について


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