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J-GLOBAL ID：201302262510498380   整理番号：13A1558990

高スループットロール・ツー・ロール紫外ナノインプリントリソグラフィーによる高アスペクト比パターンの作製

Fabrication of high-aspect-ratio pattern via high throughput roll-to-roll ultraviolet nanoimprint lithography

著者 (4件)： YOSHIKAWA Hiroshi (Dep. of Applied Electronics, Tokyo Univ. of Sci., 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, JPN) ,  TANIGUCHI Jun (Dep. of Applied Electronics, Tokyo Univ. of Sci., 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, JPN) ,  TAZAKI Go (Tsukuba Res. Center, Kuraray Co., Ltd., 41 Miyukigaoka, Tsukuba, Ibaraki 305-0841, JPN) ,  ZENTO Toshiyuki (Tsukuba Res. Center, Kuraray Co., Ltd., 41 Miyukigaoka, Tsukuba, Ibaraki 305-0841, JPN)
資料名： Microelectronic Engineering  (Microelectronic Engineering)
巻： 112  ページ： 273-277  発行年： 2013年12月 
JST資料番号： C0406B  ISSN： 0167-9317  CODEN： MIENEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ロール・ツー・ロール(RTR)ナノインプリントリソグラフィー(NIL)の最初の報告以来,この技術の研究はパターン移動技術,ロール成形加工,種々のRTR-NIL法を含む方向に拡張されてきた。しかし,高アスペクト比の線/空間はRTR-NILでは移動するのが困難である。この問題を解決するために,高アスペクト比の線/空間パターン移動のための十分に強靭な複製鋳型を用いる技術を開発した。また,複製鋳型の紫外線硬化樹脂に用いる材料を開発した。本研究では,ケイ素のマスタ鋳型を用いて複製鋳型を作製した。複製鋳型をロール鋳型に巻き付け,それを高スループット(18m/分)のRTR紫外NILに用いた。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *生産方式 ,  *回路パターン形成 ,  *リソグラフィー ,  アスペクト比 ,  鋳型【鋳造】 ,  ケイ素 ,  複製 ,  スループット
準シソーラス用語： *ナノインプリントリソグラフィー ,  *ロール・ツー・ロール方式 ,  高アスペクト比 ,  高スループット

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高スループット ,  ロール・ツー・ロール ,  ナノインプリントリソグラフィー ,  高アスペクト比 ,  作製