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J-GLOBAL ID：201302266713098668   整理番号：13A0363688

低脱ガス原子状水素源

Simple Low-Outgassing Atomic Hydrogen Source

著者 (9件)： ARAE Sadanori (Fac. of Engineering, Yokohama National Univ.) ,  YAMAZAKI Takahiko (Fac. of Engineering, Yokohama National Univ.) ,  YANASE Kohtaro (Fac. of Education, Gunma Univ.) ,  OCHI Keita (Fac. of Education, Gunma Univ.) ,  ISHII Asuka (Fac. of Education, Gunma Univ.) ,  OKUSAWA Makoto (Fac. of Education, Gunma Univ.) ,  MASE Kazuhiko (Inst. of Materials Structure Sci., KEK) ,  MASE Kazuhiko (The Graduate Univ. for Advanced Studies) ,  TANAKA Masatoshi (Fac. of Engineering, Yokohama National Univ.)
資料名： Journal of the Vacuum Society of Japan  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 55  号： 8  ページ： 403-404 (J-STAGE)  発行年： 2012年 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 1882-2398  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 筆者らは70mm(CF70)の外径を有する合体フランジに取り付けられた簡単な原子状水素源を作った。源はタングステンフィラメント,水素ガス入口,および2つのフィードスルーより構成される。フィラメントは脱ガス率を減少させるために,CF70ニップルと0.2%ベリリウム銅合金で作られた酸素無し銅ガスケットによって囲まれている。この水素源を使用して,筆者らは室温でクリーンなSi(111)-7×7面を水素化した。低エネルギー電子回折パターンとAuger電子スペクトルが水素化の前と後で測定された。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *脱ガス ,  水素 ,  フィラメント ,  *水素化 ,  気体 ,  低速電子回折 ,  Augerスペクトル ,  超高真空 ,  結晶方位 ,  *ケイ素 ,  タングステン
準シソーラス用語： 原子状水素 ,  水素源 ,  水素ガス ,  低エネルギー電子回折 ,  シリコン(111)

分類 (2件)： ガス化学工業  (YB02070O) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (11件)：

• 1) K. Oura, V. G. Lifshits, A. A. Saranin, A. V. Zotov and M. Katayama: Surf. Sci. Rep., 35 (1999) 1.
• 2) J. T. Yates, Jr.: Experimental Innovations in Surface Science -A Guide to Practical Laboratory Methods and Instruments, (Springer-Verlag, New York, 1998) p. 682.
• 3) F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A, 22 (2004) 181.
• 4) F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A, 22 (2004) 739.
• 5) F. Watanabe: Shinku, 49 (2006) 349.

タイトルに関連する用語 (2件)： 脱ガス ,  原子状水素