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J-GLOBAL ID：201302267857233205   整理番号：13A0014033

純スピン流注入によるパーマロイ薄膜の磁化反転シミュレーション -多方向注入の効果-

Micromagnetics Simulation on Magnetization Reversal in Permalloy Thin Film by Pure Spin Current Injection

著者 (3件)： 本多周太 (筑波大学数理物質系) ,  伊藤博介 (関西大学システム理工学部) ,  伊藤博介 (独立行政法人科学技術振興機構, CREST)
資料名： Journal of the Magnetics Society of Japan  (Journal of the Magnetics Society of Japan)
巻： 36  号： 6  ページ： 331-335 (J-STAGE)  発行年： 2012年 
JST資料番号： Z0944A  ISSN： 1882-2924  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電流を伴わない純スピン流注入によるパーマロイ膜の磁化反転ダイナミクスを,マイクロマグネティックシミュレーションにより解析し,多方向からの注入による磁化反転可能な薄膜サイズの増加を示した。シミュレーションに用いるパーマロイへの純スピン流入のモデルとLandau-Lifshitz方程式による計算方法を示した。シミュレーションの結果として,長軸方向に磁化したパーマロイ薄膜へ1方向から純スピン流を注入した際と両側の側面から注入した際の磁化反転が起こるパーマロイのサイズ,注入スピンの量および反転時間の関係を示した。両側の側面から純スピン流を注入することで磁化反転可能な薄膜サイズが4倍になること,注入速度の限界および反転時間に差がないことを示した。

シソーラス用語： パーマロイ ,  *磁性薄膜 ,  *磁化反転 ,  異常Hall効果 ,  電流 ,  電子スピン ,  Landau-Lifshitz方程式 ,  計算機シミュレーション ,  スピン流

分類 (1件)： 磁性材料  (NA04040H)

引用文献 (21件)：

• 1) J. C. Slonczewski: J. Magn. Magn. Mat., 159, L1(1996).
• 2) L. Berger: Phys. Rev. B, 54, 9353(1996).
• 3) S. S. P. Parkin: U. S. Patent, No. 6, 834, 005(Dec. 21, 2004).
• 4) A. Yamaguchi, T. Ono, S. Nasu, K. Miyake, K. Mibu and T. Shinjo: Phys. Rev. Lett., 92, 077205(2004).
• 5) J. Hayakawa, S. Ikeda, Y. M. Lee, R. Sasaki, T. Meguro, F. Matsukura, H. Takahashi, and H. Ohno: Jpn. J. Appl. Phys., 44, L1267(2005).

タイトルに関連する用語 (7件)： スピン流 ,  注入 ,  パーマロイ ,  薄膜 ,  磁化反転 ,  シミュレーション ,  多方向