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J-GLOBAL ID：201302270279069104   整理番号：13A1042073

固定床反応装置でのテトラブロモシランの水素化反応によるトリブロモシランの生成

著者 (7件)： 友野和哲 (山口大 大学院) ,  古屋博敏 (山口大 大学院) ,  宮本成司 (山口大 大学院) ,  小川拓朗 (山口大 大学院) ,  隅本倫徳 (山口大 大学院) ,  小松隆一 (山口大 大学院) ,  中山雅晴 (山口大 大学院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 93rd  号： 1  ページ： 69  発行年： 2013年03月08日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： SiCl4は,SiHCl3の化学気相堆積(CVD)法による多結晶シリコン製造時の主要副生成物である。一般に,Si製造時に60%以上のSiCl4が副生すると知られている。SiCl4からSiHCl3への再生反応は低収率(20-25%)であるため,加水分解によってSiO2とHClにされる。本研究では,SiBr4の水素化反応について調査した。その結果,700°CでのSiBr4転換率は約40%であった。(著者抄録)

シソーラス用語： *固定層反応器 ,  *水素化 ,  化学蒸着 ,  多結晶 ,  加水分解 ,  *ケイ素化合物 ,  *臭化ケイ素 ,  太陽電池
準シソーラス用語： *テトラブロモシラン ,  *トリブロモシラン ,  シリコン太陽電池

分類 (2件)： その他の無触媒反応  (CB06070U) ,  塩  (CD01050V)

タイトルに関連する用語 (2件)： 固定床反応装置 ,  水素化反応