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J-GLOBAL ID：201302270329043594   整理番号：13A0814704

清浄化媒体の物理的及びガス的性質を最適化することによるメガ音波性能の制御

Controlling MegaSonic Performance by Optimizing Cleaning Media’s Physical and Gaseous Properties

著者 (5件)： SHENDE Hrishi (MP Mask Technol. Center, LLC, ID, USA) ,  SINGH Sherjang (SUSS MicroTec Inc., CA, USA) ,  BAUGH James (MP Mask Technol. Center, LLC, ID, USA) ,  DIETZE Uwe (SUSS MicroTec Inc., CA, USA) ,  DRESS Peter (SUESS MicroTec Photomask Equipment GmbH & Co. KG, Sternenfels, DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8522  ページ： 852217.1-852217.7  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マスクのパターンサイズが縮小するに連れて,パターンはより脆くなり,清浄化中の物理力損傷のポテンシャルは増加する。同時に,マスクのパターン密度が増加することによって,物理力なしには複雑なトレンチから粒子を除去することが困難となる。音波エネルギーは速度境界層を抑圧する能力を持ち,したがって,マスクの深溝トレンチにトラップされた粒子の近くに物理力衝撃を与えることができる。音響エネルギーを用いるメガ音波は先端マスクの好ましい物理力清浄化技術である。しかし,メガ音波は,もし,エネルギー分布が最も狭いプロセスウインドウに制限されないと,大変攻撃的になる。ここでは,液体媒体特性とそれがメガ音波エネルギーを制御する効果を評価する。メガ音波キャビテーションを制御する好都合なガス的性質を与える化学を同定する。この化学の効果を音響エネルギーと音響ルミネセンスを測定することによって特性化する。この現象をパターン損傷研究によってさらに証明する。

シソーラス用語： *フォトマスク ,  *リソグラフィー ,  *フォトレジスト ,  浄化 ,  物理的性質 ,  キャビテーション ,  振動エネルギー ,  音響 ,  音ルミネセンス ,  パターン形成
準シソーラス用語： SRAF ,  音響エネルギー ,  音響ルミネセンス ,  清浄化

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 清浄化 ,  媒体 ,  物理 ,  性質 ,  最適化 ,  音波