マルチ中空放電プラズマCVDを用いて堆積させたマイクロ結晶質膜の性質へのナノ粒子導入による影響

KIM Yeonwon; MATSUNAGA Takeaki; NAKAHARA Kenta; SEO Hyunwoong; KAMATAKI Kunihiro; UCHIDA Giichiro; ITAGAKI Naho; KOGA Kazunori; SHIRATANI Masaharu

文献

J-GLOBAL ID：201302272123396582 整理番号：13A1156570

マルチ中空放電プラズマCVDを用いて堆積させたマイクロ結晶質膜の性質へのナノ粒子導入による影響

Effects of nanoparticle incorporation on properties of microcrystalline films deposited using multi-hollow discharge plasma CVD

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Surface & Coatings Technology (Surface & Coatings Technology)

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巻： 228 号： Supplement 1 ページ： S550-S553 発行年： 2013年08月15日
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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マルチ中空放電プラズマCVDを用いて堆積させたマイクロ結晶質Si膜の性質への結晶質ナノ粒子導入による影響を調べた。ナノ粒子を含む膜の明と暗導電率はいずれもナノ粒子を含まない膜より低かった。ナノ粒子を含む膜は含まない膜に比べて,低い結晶化度領域でより高い光感受性を示した。高い結晶化度と高い感光性のマイクロ結晶質膜を低い希釈比,R=([SiH₄]+[H₂])/[SiH₄]以下の小さなナノ粒子体積範囲だけで得られた。少量のナノ粒子を膜に導入すると膜の明と暗導電率に大きく影響した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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