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J-GLOBAL ID：201302278928063200   整理番号：13A0311963

平坦な(100)側表面のナノウォール形状のMgO基板:3次元機能性酸化物ナノ構造化エレクトロニクスへの新しいルート

Nanowall-Shaped MgO Substrate with Flat (100) Sidesurface: A New Route to Three-Dimensional Functional Oxide Nanostructured Electronics

著者 (4件)： FUJIWARA Yasushi (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  HATTORI Azusa N. (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  FUJIWARA Kohei (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TANAKA Hidekazu (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 52  号： 1,Issue 1  ページ： 015001.1-015001.5  発行年： 2013年01月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アーキテクチャ的に設計したナノウォール形状のMgO(ナノウォールMgO)を,ナノインプリントリソグラフィー(NIL)とパルスレーザ蒸着(PLD)を組合せて作製した。ナノウォールMgOの側表面は,ナノウォールMgOの高さと幅のアスペクト比が0.7より小さいとき,最も安定な(100)面の代わりに端が切り取られた(111)ファセットを見せた。表面結晶学を最適化して,典型的にはナノウォールアスペクト比を設計し,アニーリング後の処理条件を制御することによって,単結晶の平坦な(100)側表面のナノウォールMgOが形成できる。ナノウォールMgOを基板に適用して,どのようにもサイズを制御した極めて小さい3次元エピタキシャル金属酸化物ナノ構造が形成されることを実証した。ナノウォールMgO基板を利用したナノ製造技術は高品質の3次元エピタキシャル金属酸化物ナノ構造が得られる新しい道が開けるであろう。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： ナノ構造 ,  *酸化マグネシウム ,  電子技術 ,  *基板 ,  *機能材料 ,  リソグラフィー ,  レーザ蒸着 ,  アスペクト比 ,  ファセット ,  エピタクシー ,  熱処理 ,  酸化物 ,  パルスレーザ蒸着
準シソーラス用語： *ナノウォール ,  エレクトロニクス ,  ナノインプリントリソグラフィー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (33件)：

• 1) Y.W. Lee, B.-J. Kim, J.-W. Lim, S.J. Yum, S. Choi, B.-G. Chae, G. Kim, and H.-T. Kim: Appl. Phys. Lett. 92(2008)162903.
• 2) J. Takaobushi, H. Tanaka, T. Kawai, S. Ueda, J.-J. Kim, M. Kobata, T. Ikenaga, M. Yabashi, K. Kobayashi, Y. Nishino, D. Miwa, K. Tamasaku, and T. Ishikawa: Appl. Phys. Lett. 89(2006)242507.
• 3) C.H. Ahn, S. Geriglio, P. Paruch, T. Tybell, L. Antognazza, and J.-M. Triscone: Science 284(1999)1152.
• 4) Y.S. Dedkov, U. Riidiger, and G. Giintherodt: Phys. Rev. B 65(2002)064417.
• 5) D. Reisinger, P. Majewski, M. Opel, L. Alff, and R. Gross: Appl. Phys. Lett. 85(2004)4980.

タイトルに関連する用語 (7件)： ナノウォール ,  MgO ,  3次元 ,  機能性 ,  酸化物 ,  ナノ構造 ,  エレクトロニクス