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J-GLOBAL ID：201302284905434635   整理番号：13A0975843

イリジウムをドープした銅のスピンHall効果を用いる三端子磁気トンネル接合

Three terminal magnetic tunnel junction utilizing the spin Hall effect of iridium-doped copper

著者 (9件)： YAMANOUCHI Michihiko (Center for Spintronics Integrated Systems, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN) ,  CHEN Lin (Center for Spintronics Integrated Systems, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN) ,  KIM Junyeon (National Inst. for Materials Sci., Tsukuba 305-0047, JPN) ,  HAYASHI Masamitsu (National Inst. for Materials Sci., Tsukuba 305-0047, JPN) ,  SATO Hideo (Center for Spintronics Integrated Systems, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN) ,  FUKAMI Shunsuke (Center for Spintronics Integrated Systems, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN) ,  IKEDA Shoji (Center for Spintronics Integrated Systems, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN) ,  MATSUKURA Fumihiro (Center for Spintronics Integrated Systems, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN) ,  OHNO Hideo (Center for Spintronics Integrated Systems, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 102  号： 21  ページ： 212408-212408-4  発行年： 2013年05月27日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *銅 ,  ドーピング ,  イリジウム ,  *Hall効果 ,  *トンネル接合 ,  相互接続 ,  金属薄膜 ,  チャネル ,  スイッチング ,  トルク ,  鉄合金 ,  コバルト含有合金 ,  ホウ素含有合金 ,  酸化マグネシウム ,  ルテニウム ,  タンタル ,  多層構造 ,  ナノ構造 ,  超薄膜 ,  ナノシート
準シソーラス用語： *スピンHall効果 ,  スピンとらんすふぁー ,  スピン移動トルク ,  ナノ薄膜 ,  *磁気トンネル接合

分類 (2件)： 金属-絶縁体-金属構造  (BM03087F) ,  界面の電気的性質一般  (BM03081H)

タイトルに関連する用語 (5件)： イリジウム ,  ドープ ,  銅 ,  スピンHall効果 ,  磁気トンネル接合