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J-GLOBAL ID：201302287464320247   整理番号：13A0350989

デュアルビームスパッタリングを用いた分子深さプロファイリングの研究

Investigations of molecular depth profiling with dual beam sputtering

著者 (3件)： LU C. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania) ,  WUCHER A. (Univ. Duisburg-Essen, Duisburg, DEU) ,  WINOGRAD N. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 45  号： 1  ページ： 175-177  発行年： 2013年01月 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 良く確立されたモデル系としてLangmuir Blodgett(LB)多層薄膜を使用し,生物学的材料におけるデュアルビームFIB断面手法の実行可能性を研究した。アラキン酸バリウムの402-nm LB膜をAu⁺ビームでの高フルエンス衝撃へさらし,Au⁺事前衝撃された領域でラスターされた40-keV C₆₀⁺ビームでの深さプロファイル実験をおこなった。得られた結果から,Au⁺ビームによる極めて低い侵食速度がLB膜上で見出されたため,FIB断面実験がこの試料上では効果的でないことが示された。その後のC₆₀⁺深さプロファイルの分析から,金予備衝撃が約100nm厚みのサブ表面を変化させ,試料の分子完全性が完全に破壊されることが示された。C₆₀⁺イオン衝撃がこの損傷された層を除去し,質量スペクトル中で分子情報を復元できることがわかった。金予備衝撃のフルエンスを変えることによって,変化層の進展動力学を研究することが可能であった。

シソーラス用語： 金化合物 ,  金属イオン ,  *深さプロフィル ,  Langmuir-Blodgett膜 ,  多層膜 ,  フラーレンC60 ,  *イオンビームスパッタリング ,  イオンビーム ,  二次イオン質量分析 ,  制御 ,  バリウム化合物 ,  脂肪酸
準シソーラス用語： 金イオン ,  FIB-SIMS ,  損傷制御

分類 (3件)： 固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  スパッタリング  (BK16110U) ,  質量分析  (CC03013N)

物質索引 (1件)： アラキン酸

タイトルに関連する用語 (3件)： 分子 ,  深さプロファイリング ,  研究